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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 部件鍍膜設備

    部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter
    型號： Batch Typ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:54:36 對比

  • 12英寸通用物理氣相沉積系統

    Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統，磁控濺射源和腔室結構的設計有效提高靶材利用率。
    型號： Polaris系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:54:13 對比

  • 高真空熱阻蒸發薄膜沉積系統

    高真空熱阻蒸發薄膜沉積系統主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發源；樣品加熱控溫；電控系統；配氣系統等部分組成。該系統可與手套箱對接。熱...
    型號： DZ450 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:50:43 對比

  • 高密度等離子體化學氣相沉積系統

    Orion Proxima 高密度等離子體化學氣相沉積系統。
    型號： Orion Pro... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:43:59 對比

  • 充氮型程控烤膠機

    充氮型程控烤膠機 產品性能：1.充氮烤膠機是在普通基礎上增加密封蓋和氮氣注入口，保證氮氣均勻通入烤膠機內部形成惰性氣體保護氣氛。2.充氮烤膠機最高溫度可達到30...
    型號： AC200-PE 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:41:35 對比

  • 部件鍍膜設備

    部件鍍膜設備是在真空狀態下在產品外部涂層非導電體的Coating設備，由真空內產品做著自傳，公轉,并能保持一定的膜厚度.
    型號： KaRon 設備 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:41:20 對比

  • 卷對卷薄膜濺射系統

    卷對卷薄膜濺射系統是在真空狀態下用于micro phone的厚度為4u Film的Gold(AU)做Sputtering的設備.
    型號： Roll to R... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:35:17 對比

  • 金屬有機化學氣相沉積

    Propel HVM GaN MOCVD 系統，用于電源、5G 射頻和光子學，單晶圓反應器技術為電源、5G 射頻和光子學應用提供高效、高質量的氮化鎵基器件
    型號： Propel HV... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:28:38 對比

  • ALD

    Beneq Transform 300 是一個高度通用的制造平臺，面向致力于 CIS、電源、Micro-OLED/LED、先進封裝和其他 MtM 應用的 IDM...
    型號： Beneq Tra... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:22:26 對比

  • ALD

    Beneq Prodigy™ 是 VCSEL、LED 和 MEMS 制造商和代工廠的理想制造解決方案，他們希望通過經濟實惠的獨立 ALD 批處理工具...
    型號： Beneq Pro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:19:11 對比

  • 卷對卷薄膜濺射系統

    卷對卷薄膜濺射系統裝置在真空狀態中對PET Film，以ITO或Metal Coating的設備, Heating, Plasma Etching, Sputt...
    型號： KaRoll RT... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:10:21 對比

  • 原子層沉積

    Beneq Transform在其多功能性和適應性方面建立了全新的ALD集群工具產品，以滿足廣泛的應用和細分市場的需求。Beneq Transform 配置多個...
    型號： Beneq 轉換 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:03:31 對比

  • Beneq C2R--空間原子層沉積ALD

    Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產。由于采用等離子體增強旋轉原子層沉積工藝...
    型號： 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:56:52 對比

  • 碳化硅沉積系統

    碳化硅沉積系統G10-碳化硅150 mm 和 200 mm – 支持雙晶圓尺寸 – 為您的未來投資提供保障市場上最高的晶圓產量 / m2市場上晶圓出色的運行過程...
    型號： G10-碳化硅 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:54:54 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P400A 專為以優化的批量大小涂覆不同類型的基材而設計 - 足夠大以提供顯著的容量，但又足夠小以在批次和較短的循環時間內保持出色的均勻性。我們的客...
    型號： Beneq P40... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:50:57 對比

  • 單片濕法刻蝕機

    滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
    型號： KS-S300-E 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:50:24 對比

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實現最大的經濟...
    型號： WS-1000MH 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:45:26 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P800 專門設計用于涂覆復雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學鍍膜、半導體設備部件的防腐鍍膜，以及在玻璃或金屬板上使用...
    型號： Beneq P80... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:44:22 對比

  • 化合物半導體沉積系統

    化合物半導體沉積系統“行星式反應器模塊，用于在150/200毫米襯底（Si/藍寶石/SiC）上應用氮化鎵，可提高生產率和晶圓性能"
    型號： AIX G5+ C 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:41:15 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq P1500 是我們最大的原子層沉積系統，專門用于涂覆大型板材和復雜零件。它還用于為較小組件的批次提供更高的吞吐量。我們的客戶將 P1500 用于大直...
    型號： Beneq P15... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:39:39 對比
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