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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 全自動CMP晶圓清洗一體機

    韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
    型號: GNP GPC-3... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 14:22:01 對比
  • CMP

    GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而開發,也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。GNP POLI-500廣泛用于耗材供應商,襯...
    型號: GNP POLI系... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 10:32:48 對比
  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(8“~12")晶圓。
    型號: GNP CLEAN... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 10:16:24 對比
  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~8“)晶圓。
    型號: GNP CLEAN... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/5 9:48:10 對比
  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號: GNP CLEAN... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 17:19:20 對比
  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號: GNP CEANE... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:56:54 對比
  • CMP

    GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發而設計。特別是該系統對于晶圓工藝開發具有較低的擁有成本,材料評估和生產前運行。
    型號: GNP POLI-... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 16:51:37 對比
  • CMP

    G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發,操作簡單,成本低。
    型號: GNP POLI-... 所在地:韓國 參考價: 面議 更新時間:2024/9/4 14:47:51 對比

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