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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 去膠機

    適用于半導體及LED芯片制造領域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
    型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:16:52 對比

  • 高密度 刻蝕機

    GDE C200系列 高密度 刻蝕機，等離子體源和頻率設計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
    型號： GDE C200系... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

  • 無掩模對光刻機

    無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執行系統 （MES） 的集成。該工具用于生產傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號： MLA 300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:12:35 對比

  • Amod物理氣相沉積平臺

    Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應更多的...
    型號： 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:10:22 對比

  • 部件鍍膜設備

    部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產品 Loading可以，以In-...
    型號： For Half ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:09:58 對比

  • 程控烤膠機

    LEBO science HP100-SE程控烤膠機，7寸觸屏PLC控，硬質陽極氧化鋁面板，優異性能，專業服務，實驗理想之選。
    型號： HP100-SE標... 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:09:54 對比

  • EvoVac 物理氣相沉積平臺

    EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺...
    型號： 埃沃維克 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:07:57 對比

  • 鋁物理氣相沉積系統

    eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統，優良的磁控濺射系統，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
    型號： eVictor A... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:07:46 對比

  • 電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVD

    該ICPCVD工藝模塊設計用于在低生長溫度下生產高質量的薄膜，通過高密度遠程等離子體實現，從而實現優秀的薄膜質量，同時減少基板損傷。
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:06:35 對比

  • 濕法勻膠工作臺

    Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運輸安裝時間短。易于裝載和操作，所有物品都讓操作員方便地觸及。
    型號： WS-1000 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:50:11 對比

  • 等離子清洗機

    LEBO science的PT500真空等離子清洗機，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點：設備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
    型號： PT500 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:39:58 對比

  • 單晶圓刻蝕系統

    憑借在蝕刻GaN，SiC和藍寶石等材料方面的豐富經驗，我們的技術既能夠滿足性價比的要求、又能使器件的性能得到更優化。PlasmaPro 100 Polaris單...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:33:24 對比

  • 部件鍍膜設備

    它實現高大量生產性的高真空基本Sputter - 可以生產1Batch/900EA以上的產品，以沉積及Sputter工序的*化，提升EMI莫品質 - 證明“沉積...
    型號： HVD-1800 ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:26:45 對比

  • 單片濕法去膠機

    用于先進封裝工藝過程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊，滿足各種品牌型號、各種厚度的...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:23:21 對比

  • 去膠機

    用于封裝領域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導體領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
    型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:17:27 對比

  • 高真空蒸發鍍膜設備

    EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發鍍膜設備，專為薄膜制備與研究設計。其核心組件包括真空室、蒸發源、膜厚監測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統、氣路系...
    型號： EC400 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:13:15 對比

  • 電感耦合等離子體刻蝕

    PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE系統利用高密度電感耦合等離子體實現快速刻蝕速率。該工藝模塊可提供出色的均勻性、高吞吐量、高精度和低損傷工藝...
    型號： PlasmaPro... 所在地：英國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:11:50 對比

  • 金屬有機物化學氣相沉積設備

    適用于光電應用的 Lumina AS/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統
    型號： Lumina AS... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:01:07 對比

  • 8英寸 通用物理氣相沉積系統

    Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力。
    型號： Polaris系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 16:01:00 對比

  • 多靶磁控濺射鍍膜系統

    MS450高真空磁控濺射鍍膜設備詳細組成及功能如下：真空室：提供高真空環境，確保鍍膜過程的純凈性。濺射靶槍：用于安裝濺射靶材，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原...
    型號： MS450 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 15:55:33 對比
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