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全自動SCRUBBER清洗機
全自動SCRUBBER清洗機簡介：?清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除。通過大...
型號： customize... 所在地：上海市參考價：面議更新時間：2024/9/6 16:07:41 對比

全自動清洗機濕法清洗設備 customized
涂膠顯影半自動機臺
KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產的工藝試驗和生產線。占地面積小，操作時...
型號： KS-M300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 11:03:22 對比

涂膠顯影
12寸噴霧式涂膠機
KS-S300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣，避免溝槽堆積...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:55:36 對比

涂膠顯影
12寸集束型涂膠顯影機
KS-C300涂膠顯影機可用于封裝、 MEMS、OLED等領域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產品可兼容不同材質的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
型號： KS-C300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:34:55 對比

涂膠顯影
全自動SCRUBBER清洗機
清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除，實現高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結合，...
型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:25:43 對比

晶圓清洗
單片式化學清洗機
KS-CM300/200 單片式化學清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進程，可...
型號： KS-CM300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:21:11 對比

清洗設備
單片清洗機
用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝，配合清洗化學藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機物...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:17:16 對比

晶圓清洗
去膠機
適用于半導體及LED芯片制造領域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:16:52 對比

去膠
單片濕法去膠機
用于先進封裝工藝過程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊，滿足各種品牌型號、各種厚度的...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:23:21 對比

去膠
去膠機
用于封裝領域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導體領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 16:17:27 對比

光阻去除掩膜版清洗
單片濕法刻蝕機
滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。
型號： KS-S300-E 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:50:24 對比

濕法刻蝕
星型全自動涂膠顯影機
KS-S150星型全自動涂膠顯影機用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{寶石、砷化鎵和碳化硅等材質的晶圓，產品涉及多個應用...
型號： KS-S150 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 17:31:57 對比

涂膠顯影
涂膠顯影機
KS-FT200/300系列堆疊式高產能前道涂膠顯影機，為我司自主研發的突破晶圓前道28nm工藝節點及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/4 15:41:33 對比

涂膠顯影

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深圳市矢量科學儀器有限公司

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