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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 無掩模光刻機

    μMLA無掩模光刻機是優良的無模板技術，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統。
    型號： μMLA 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:34:47 對比

  • 掃描電鏡等離子清洗機

    CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。
    型號： CIF-SEM 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:34:10 對比

  • 高真空有機及熱阻蒸發薄膜沉積系統

    產品概述：高真空有機及熱阻蒸發薄膜沉積系統主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發源；樣品加熱控溫；電控系統；配氣系統等部分組成。設備用途...
    型號： DZ350 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:33:48 對比

  • 原子層沉積ALD

    Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學術研究和企業研發而設計。Beneq TFS 200 經過專門設計，可最大限度地減少多用戶...
    型號： Beneq TFS... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:29:26 對比

  • 芯片刻蝕機

    ELEDE® 380系列 芯片刻蝕機，優良的等離子體發生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
    型號： ELEDE... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:26:03 對比

  • MBE分子束外延系統

    GENxplor® R&D MBE系統獲得了化合物半導體制造的CSindustry獎，采用Veeco成熟的3英寸生長室設計，并具工藝靈活性，非常適合U...
    型號： GENxplor ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:25:22 對比

  • 原子層沉積ALD

    用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
    型號： Genesis A... 所在地：芬蘭 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:24:21 對比

  • 濺射系統

    iTops PVD AlN 濺射系統，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。
    型號： iTops PVD... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:22:41 對比

  • 濺射系統

    iTops PVD ITO 濺射系統，加熱能力、精確的溫度控制、優異的真空能力.高晶體質量的氮化鋁薄膜及優異的薄膜厚度均勻性。
    型號： iTops PVD... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:18:05 對比

  • 分子束外延MBE

    GEN10™ MBE 系統是成熟平臺中經濟、最靈活的簇狀工具系統，允許多達三個可配置的、特定于材料的生長模塊。這使得系統利用率高，允許多個研究人員同...
    型號： GEN10 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:14:41 對比

  • 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統

    產品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、立式旋轉靶臺、基片加熱臺、抽氣系統、真空測量、工作氣路、電控系統...
    型號： LMBE450 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:13:08 對比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統

    產品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。設備用途...
    型號： PVD400 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:08:37 對比

  • 勻膠機

    H6-8型勻膠機機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
    型號： H6-8 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 14:00:18 對比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業的軟件控制系統。
    型號： PVD500 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 13:55:32 對比

  • 金屬有機化學氣相沉積MOCVD

    Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業界最高性能的金屬有機物化學氣相沉積系統MOCVD，可實現出色的均勻性和可重復性，以及低缺陷率。Vee...
    型號： TurboDisc... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 13:48:50 對比

  • 晶圓清洗機

    高效的緊湊型清洗裝置，為您的流程提供支持977晶圓清洗機系統專為切割后工件清洗和干燥而設計，配有旋轉卡盤臺、旋轉清洗/干燥臂。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴，滿...
    型號： 977 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 13:37:50 對比

  • 分子束外延MBE

    屢獲殊榮的新型 GENxcel™ 系統是在 GENxplor 的基礎上進行的擴展，GENxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以來...
    型號： GENxcel R... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:33:27 對比

  • 等離子清洗和加熱機

    由德國UNITEMP研發的等離子清洗和加熱機，最大零件裝載面積：305 mm x 305 mm（最大零件高度為 25 mm）。
    型號： PTP-300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:33:05 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-15系列勻膠機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款650系列HL涂布機系統 將 可容納高達300mm 的晶圓...
    型號： H6-15 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:31:33 對比

  • 勻膠機

    laurell的H6-23型的勻膠機結構緊湊，具有優良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統 將 可容納最大 150m...
    型號： H6-23 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 11:30:46 對比
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