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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 反應性離子刻蝕系統RIE

    可為多種材料提供各向異性干法刻蝕工藝，兼容200mm以下所有尺寸的晶圓，快速更換到不同尺寸的晶圓工藝，電極的適用溫度范圍寬，-150°C至400...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:18:55 對比

  • cmp拋光機

    POLI-400Lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、STI、SO...
    型號： POLI-400L 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:17:26 對比

  • CMP拋光機

    POLI-500是小型8英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、S...
    型號： POLI-500 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:16:20 對比

  • CMP拋光機

    POLI-762是小型12英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、...
    型號： POLI-762 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:15:12 對比

  • 霍爾效應測試儀

    霍爾效應測試儀 簡介：1.系統功能：用于測量半導體材料的電阻率/電導率、流動性、散裝/片狀載體濃度、摻雜類型、霍爾系數、磁阻、垂直/水平阻力比的半導體高性能霍爾...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:14:49 對比

  • RIE等離子刻蝕設備

    RIE-200C RIE等離子刻蝕設備是在擁有豐富交貨業績的CCP RIE系統 “RIE-10NR “的基礎上開發的量產型盒式裝載系統。該系統可對Si、Poly...
    型號： RIE-200C 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:14:14 對比

  • LSA 101 激光尖峰退火設備

    LSA 101 激光尖峰退火設備 系統安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節點的先進邏輯器件的技術。LSA 101 的掃描技術...
    型號： 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:13:03 對比

  • 離子束刻蝕系統IBE

    離子束刻蝕系統IBE 的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統配置與實際應用緊密協調，以...
    型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:12:25 對比

  • 智能型多功能橢偏儀

    智能型多功能橢偏儀? （Smart SE） 是一款通用型薄膜測量工具。測試速度快，準確。它可以表征幾埃到20µm薄膜厚度、光學常數（n, k）以及薄膜...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:06:59 對比

  • 深硅刻蝕系統DEEP SI ETCH

    提供深硅蝕刻（DSiE）領域的MEMS，封裝和納米技術的廣泛應用，從光滑側壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕，不需要更換腔室硬件就可以實現。
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:05:06 對比

  • 低壓化學氣相沉積系統LPCVD

    低壓化學氣相沉積系統LPCVD 簡介：1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2. 直徑200毫米的石英室3. 內部石英管的設計便于拆卸和清洗4. 基...
    型號： customize... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:03:48 對比

  • 等離子體刻蝕設備

    高密度等離子體刻蝕設備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統配備了真空盒室，是一套完整的生產系統，具有優良的工藝重復性和穩定性。
    型號： RIE-800iP 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:03:35 對比

  • 噴涂膠機

    在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經過優化后的晶圓上方噴嘴移動路徑可以實現在襯底上均勻的涂層。 噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細小的液滴
    型號： AS8 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:03:11 對比

  • 高速高分辨顯微共焦拉曼光譜儀

    高速高分辨顯微共焦拉曼光譜儀 系統功能：快速獲得詳細的圖像和分析，非常適合于微觀和宏觀測量，提供*進的二維和三維共聚焦成像能力。LabRAM Odyssey&t...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:00:01 對比

  • 鍵合機

    鍵合機 簡介：1. 鍵臺工藝：金絲球焊和深腔模形焊2. 超聲系統：可通過軟件在60kHz~100kHz間切換以適應不同的鍵臺基板3. 球焊金絲：17.5μm-5...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:57:10 對比

  • 超景深顯微鏡

    超景深顯微鏡概述：本套系統主要用于材料表面形貌的觀察；平面或三維測量?？刹捎?D觀測模式，對被測物形狀，粗糙度，表面積等進行測量，可以做高度，寬度，橫截面，角度...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:56:06 對比

  • RIE等離子刻蝕設備

    RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動RIE等離子刻蝕設備，它能滿足非腐蝕性氣體化學苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數控制和存儲提供了一個用戶友...
    型號： RIE-10NR 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:55:21 對比

  • 納米壓印系統

    納米壓印系統 簡介：1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等3. 納米壓印技術：旋涂膠基底高精度壓印&點膠自動找平...
    型號： GL6 R&... 所在地：青島市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:51:14 對比

  • 工業顯微鏡

    工業顯微鏡簡介：1. 支持通過光學顯微鏡或圖像測量儀（如Nikon NEXIV），對直徑為6英寸（150mm）和8英寸（200mm）的半導體晶圓的創新設計和材料...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:50:46 對比

  • 推拉力測試機

    推拉力測試機 簡介：1. 適用大功率集成電路封裝IGBT、電路制造、 材料研究、汽車電子等等，應用于常見的拉力和剪切力測試應用。2. 標配行程為150 x 15...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:50:16 對比
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