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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 深硅刻蝕設備

    RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發目的而改裝的。該系統由R...
    型號： RIE-400iP... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:12:01 對比

  • 激光掩模光刻機

    ULTRA激光掩模光刻機 是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯網 （IoT） 和 ME...
    型號： ULTRA 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:11:10 對比

  • 無掩膜光刻機

    ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調制技術，實現了數字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩定，上手簡單。...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:08:14 對比

  • 雙軸全自動晶圓劃片機

    8230雙軸全自動晶圓劃片機：一款專為半導體制造設計的設備，集高效、精準、高性能與低成本于一身，最大支持12英寸晶圓切割。雙軸對向設計，提升切割效率，滿足高精度...
    型號： 8230 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:04:00 對比

  • 等離子體（ICP）刻蝕設備

    RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設備，可處理多達ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統為各種蝕刻應用提供了堅固...
    型號： RIE-350iP... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:03:21 對比

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代表了電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿技術，其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號： SENTECH S... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 17:00:11 對比

  • CMP后清洗機

    GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
    型號： GNP CEANE... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:56:54 對比

  • 勻膠機

    Laurell的WS-650-15B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列系統將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm...
    型號： WS-650-15... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:56:30 對比

  • 數字萬用表（DMM）

    在設計產品時，您不應擔心測量質量問題， 而應該全神貫注于創造優質設計。 我們的數字萬用表經過精心設計，全力保證每次都能執行可靠、準確的測量。 它們采用了非常先進...
    型號： 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:56:09 對比

  • 雙軸半自動劃片機

    雙軸半自動劃片機是一款先進的半導體切割設備，廣泛應用于半導體制造和封裝領域。該設備結合了高精度、高效率和穩定性等特點，能夠滿足現代半導體工業對切割精度的嚴格要求...
    型號： 7920 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:54:18 對比

  • CMP

    GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發而設計。特別是該系統對于晶圓工藝開發具有較低的擁有成本，材料評估和生產前運行。
    型號： GNP POLI-... 所在地：韓國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:51:37 對比

  • G線光刻機

    Nikon NSR G線光刻機1、Nikon NSR G線步進式光刻機光源波長436nm分辨率優于0.65µm主要用于2寸、4寸、6寸生產線廣泛應用于...
    型號： Nikon NSR 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:46:11 對比

  • 12英寸特種金屬膜層刻蝕設備

    LMEC-300™ 是魯汶儀器針對特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設備，應用于新興存儲器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復雜的金屬疊...
    型號： LMEC-300 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:45:53 對比

  • 12英寸離子束塑形（IBS) 設備

    Pangea®A系列常規IBS設備由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間，起輝不受非揮發...
    型號： Pangea... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:43:05 對比

  • RIE等離子刻蝕系統

    RIE-200NL是一種負載鎖定型的反應離子蝕刻系統，它提高了工藝的可重復性，并允許腐蝕性氣體化學。優化的工藝室設計可在ø8 “晶圓或ø22...
    型號： RIE-200NL 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:41:42 對比

  • 8英寸離子束塑形（IBS）設備

    Lorem® A 系列常規 IBS 設備，由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產生遠離晶圓空間，起輝不...
    型號： Lorem... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:39:49 對比

  • 8英寸離子束沉積（IBD）設備

    Ganister™ A離子束沉積設備，是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發的專用產品，在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有...
    型號： Ganister&... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:37:11 對比

  • 劃片機

    7234劃片機是一款高精度的半導體切割設備，主要用于晶圓或其他材料的切割加工。它配備了4英寸的空氣軸承主軸，采用直流無刷電機驅動，轉速高達30krpm，能夠兼容...
    型號： 7234 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:35:19 對比

  • 12英寸硬掩膜刻蝕設備

    Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設備，為針對 12 英寸 IC 產業的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（met...
    型號： Herent... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:34:09 對比

  • 勻膠機

    Laurell的EDC-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm...
    型號： EDC-650-2... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/4 16:32:39 對比
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