1 產品概述:

      卷繞式真空蒸鍍設備主要由真空系統、蒸發源、基材傳送系統、控制系統等部分組成。在真空環境下，通過加熱蒸發源（如電阻加熱、感應加熱、電子束加熱等），使金屬或氧化物材料蒸發成氣態，隨后沉積在連續卷繞的基材表面，形成所需的薄膜層。該設備具有高效、連續、自動化程度高等特點，廣泛應用于各種材料的表面鍍膜處理。

2 設備用途：

卷繞式真空蒸鍍設備的用途廣泛，主要包括以下幾個方面：

1. 包裝材料：在塑料薄膜、紙張等包裝材料表面蒸鍍金屬或氧化物薄膜，提高材料的阻隔性、美觀性和附加值。例如，在食品包裝材料上蒸鍍鋁膜，形成金屬化包裝，提高食品的保鮮效果。

2. 電容器：在電容器電極上蒸鍍金屬薄膜，提高電容器的性能。例如，在鋁電解電容器中蒸鍍鋁膜作為陽極，提高電容器的容量和穩定性。

3. 磁帶：在磁帶基材上蒸鍍磁性材料，制備錄音或錄像磁帶。

4. 光學膜：在光學材料表面蒸鍍增透膜、反射膜等，改善材料的光學性能。

3 設備特點

卷繞式真空蒸鍍設備具有以下特點：

1. 高效連續生產：設備采用連續卷繞的方式，實現了對帶狀材料的連續鍍膜處理，大大提高了生產效率。

2. 鍍膜質量高：在真空環境下進行鍍膜處理，避免了外界污染對膜層質量的影響，同時蒸發源的高精度控制也保證了膜層的均勻性和一致性。

3. 自動化程度高：設備配備先進的控制系統，實現了對鍍膜過程的自動化控制，降低了人工操作難度和勞動強度。

4 技術參數和特點：

基板傳送采用全新的卷繞控制技術，可根據不同的材料和尺寸實現穩定運行。

根據蒸鍍的目的，可以選擇匹配的蒸發源（感應加熱方法，電阻加熱方法，EB加熱方法）。

各種預處理/后處理的機制達到良好的工藝條件。

可提供能夠在線測量的穿透式膜厚監視儀，渦流式膜厚監視儀，電阻值監視儀等。