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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> KS-S300-SP12寸噴霧式涂膠機

12寸噴霧式涂膠機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號KS-S300-SP

品牌芯源

廠商性質經銷商

所在地沈陽市

更新時間:2024-09-06 10:55:36瀏覽次數:205次

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KS-S300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒,適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠,可以有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣,避免溝槽堆積,節省光刻膠;同時針對輕薄易碎的襯底,承片臺靜態噴霧式涂膠可以避免襯底在高速旋轉時碎裂的風險。產品可應用于封裝、微機電系統制造等領域。該產品已通過SEMI S2認證。

1. 產品概述

KS-S300全自動噴霧式涂膠機是一款創新型設備,通過超聲波技術將光刻膠霧化為微小顆粒,能夠在較大深寬比的圖形表面上以高分辨率均勻涂敷光刻膠。此技術的應用顯著增強了涂膠效果,使得光刻膠能夠有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣,從而避免了在傳統涂膠方式中常見的溝槽內堆積現象。這種精確涂布不僅有助于提高成品的質量,也能顯著節省光刻膠的使用量,降低材料成本。

針對輕薄易碎的襯底,KS-S300特別設計了靜態噴霧式涂膠系統。通過在涂膠過程中避免高速旋轉,這種設計有效降低了襯底破裂的風險,從而保護了高價值的材料,確保生產過程的安全性和可靠性。

KS-S300的應用領域十分廣泛,包括半導體封裝、微機電系統制造(MEMS)及其他高科技領域。它不僅提升了工作效率,降低了材料浪費,還在精度和一致性方面滿足了嚴格的工業標準。此外,該設備已順利通過SEMI S2認證,進一步證明了其在安全性和質量控制方面的可靠性。

2. 產品優勢:

旋流式錐形霧化可均勻覆蓋高深寬比臺階的邊緣和底部

旋轉加熱式承片臺有效節省光刻膠
承片臺靜態噴涂規避輕薄襯底碎片風險
噴嘴具備內外自動清洗功能

3. 應用域:

封裝
OLED域
MEMS


有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統

電子束光刻系統 技術參數:$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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