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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 薄膜沉積鍍膜系統

    薄膜沉積鍍膜系統Automotive Lamp Reflector是為了在汽車用HEAD LAMP部分提高AL的附著性,用Plasma,AL Sputter,C...
    型號： Automotiv... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:36:21 對比

  • 科瓦普物理氣相沉積平臺

    科瓦普物理氣相沉積平臺COVAP PVD 為許多過程應用提供了緊湊、經濟且仍然強大的解決方案。專為需要安全可靠的工具的實驗室而設計，該工具可在緊湊的占地面積內生...
    型號： COVAP 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:34:37 對比

  • 鈣鈦礦專用涂膜機

    鈣鈦礦專用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質陽極氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性。可選配多種涂膜工具，適應不...
    型號： PF200-H 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:34:07 對比

  • 單晶爐

    直拉法晶體生長系統SC 24單晶爐專為單晶硅晶體（硅錠）的工業生產而研發。該系統的模塊化設計理念可根據客戶的需求而進行靈活的調整。低能耗優化設計的24英寸熱系統...
    型號： SC24 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:33:42 對比

  • 碳化硅高溫氧化爐

    VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔...
    型號： VERIC A61... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:32:05 對比

  • 固體蠟貼片機

    固體蠟貼片機（貼蠟機）是一款高精度桌上型貼片機，采用手動涂蠟&放片方式，具有加熱和冷卻功能，自動壓片，蠟層均勻。可升級真空貼片功能，先抽真空再熱壓冷卻，貼片效果...
    型號： TWB-1150S 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:27:38 對比

  • 單晶爐

    直拉法晶體生長系統CGS1218單晶爐，專為符合半導體行業的嚴格要求而設計。該系統采用模塊化設計，且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合特殊的晶體軸配置能夠達到最高的精...
    型號： CGS1218 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:26:40 對比

  • 單晶爐

    CGS-Lab單晶爐是PVA產品線中最小的直拉法晶體生長系統，專門為研究所和實驗室設計。10 英寸熱系統的設計用于最多 5 公斤的加料量和生長直徑為 100 毫...
    型號： CGS Lab 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:23:55 對比

  • 8英寸立式爐

    FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術，可實現 1200℃ 內氧化退火工藝。
    型號： FLOURIS 2... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:22:58 對比

  • 部件鍍膜設備

    部件鍍膜設備KaLine 8V是在真空狀態中向產品外部涂層非導體的設備,在真空內產品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.
    型號： KaLine 8V 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:21:20 對比

  • IoN系列等離子清洗去膠系統

    IoN系列等離子清洗去系統具有多種射頻電源選項，可滿足客戶的特定工藝和產量要求。 我們提供不同腔體和電極配置，最大腔體可達 1200 升。
    型號： IoN 10Q 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:21:13 對比

  • 實驗型勻膠機

    實驗型勻膠機 技術參數：1.適用基片尺寸：小于1cm小碎片及到8寸標準晶圓，非標準基片可定制載物盤2.自動滴膠功能3.支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗、控溫等功...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:20:10 對比

  • AE物理氣相沉積平臺

    AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預算。您的研究目標、生產需求...
    型號： NEXDEP 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:18:04 對比

  • 12英寸金屬刻蝕機

    NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
    型號： NMC 612G 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:18:00 對比

  • 去膠機

    適用于半導體及LED芯片制造領域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
    型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:16:52 對比

  • 高密度 刻蝕機

    GDE C200系列 高密度 刻蝕機，等離子體源和頻率設計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
    型號： GDE C200系... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

  • 無掩模對光刻機

    無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執行系統 （MES） 的集成。該工具用于生產傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號： MLA 300 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:12:35 對比

  • Amod物理氣相沉積平臺

    Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應更多的...
    型號： 所在地：加拿大 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:10:22 對比

  • 部件鍍膜設備

    部件鍍膜設備實現高大量生產率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產品 Loading可以，以In-...
    型號： For Half ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:09:58 對比

  • 程控烤膠機

    LEBO science HP100-SE程控烤膠機，7寸觸屏PLC控，硬質陽極氧化鋁面板，優異性能，專業服務，實驗理想之選。
    型號： HP100-SE標... 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/5 17:09:54 對比
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