該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面積小，濕進干出，適用于碳化硅晶圓拋光后的清洗。
產品特點
全自動系統
皮帶傳動， cassette in/out 干進干出
PLC控制系統
觸摸屏操作
清洗工藝
預清洗/雙面刷洗/藥液噴霧漂洗 /兆聲噴淋/高速甩干/氮氣吹干
刷子類型
PVA 刷, 雙面刷洗
性能參數
- 北方華創
- KEYSIGHT/美國是德
- ULVAC/日本愛發科
- SAMCO
- SENTECH
- Veeco
- 沈陽科儀
- 特思迪
- UNITEMP/尤尼坦
- SUSS
- Nikon/日本尼康
- 其他品牌
- OXFORD/英國牛津
- PVA TePla
- LEBO/雷博
- CIF
- Beneq
- 魯汶
- 芯源
- KURT.J.LESKER
- 響河
- Laurell
- STELLA/海德堡儀器
- G&P
- Yxlon
- 韓國真空/IOKOVA
- 托托科技
- ELIONIX
- 矢量科學
- 愛思強
- MPI
- 英斯特
- Angstrom
- ADT
- RIBER
- ESPEC/愛斯佩克
- Formfactor
- 珞佳智能
- 佳能
- KOSAKA/小坂研究所
- 智程
- ERS
- PVD
- 鎧柏/AdNaNo
- Hitachi/日立
- HORIBA/堀場
- 美國標樂
- ficonTEC
- 博捷芯
- F&S
- 華卓精科
- 至純
- Scienta Omicron
- TRESKY
- 米開羅那
- 尼普洛
- 泉一
- Raith
- NORDSON/美國諾信
- KEYENCE/基恩士
- Coherent
- MTS/美國美特斯
- ZEISS/蔡司
- Bruker/布魯克
- Kruss/克呂士
- FEI/賽默飛
- 日本電子
- Rigaku/理學
- 天仁微納
化工儀器網