PICOSUN™P-300BV原子層沉積ALD系統已經成為高產能ALD制 造業的新標準。擁有的熱壁、*獨立的 前驅體管路和特殊的載氣設計， 確保我們可  以生產出具有優異的成品率、低顆粒水平和  電學和光學性能的高質量ALD薄膜。  高效緊湊的設計使得維護更加方便、快捷， 最 大限度的減少了系統的維護停工期和使用成  本。擁有技術的Picoflow™使得在超高深 寬比結構上沉積保形性薄膜更高效， 并已在  生產線上得到驗證。

PICOSUN™P-300BV系統代表了工業 化ALD工藝水平。這個系統是為半自動化的批 量生產而設計。設備本身針對快速批量生產  進行了優化，并允許通過SECS/GEM整合到自 動化生產線上。擁有加熱選項的真空加載系 統可以對敏感的基底進行潔凈加工并沉積金 屬氮化物薄膜。
 

PICOSUN™ P-300BV是創新驅動行業的選 ALD系統！

襯底尺寸和類型

•   200mm晶圓 25片/批次（標準間距）

•    150mm 晶圓 50片/批次（標準間距）

•    100mm 晶圓 75片/批次（標準間距）

•    非標準晶圓類基底（使用定制夾具）

工藝溫度

•    50 – 450°C

標準工藝

•   批量生產的平均工藝時間小于10秒/循環*

•   Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬

•    同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ

(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**

基片裝載

•    立式半自動裝載（一或兩個cassette位置）

•    裝載室加熱功能可選

前驅體

•    液態、固態、氣態、臭氧源

•    源瓶余量傳感器， 提供清洗和裝源服務

•     4根獨立源管線， 最多加載8個前驅體源