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首頁>>廈門韞茂科技有限公司>>產品展示>>半導體行業專用儀器>>PALD

  • 粉末原子層沉積設備 參考價：面議

    粉體包覆（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限...
    型號： GM100/100... 廠商性質：生產商所在地：廈門市 對比
    粉末式原子層沉積粉末原子層沉積PALD原子層沉積系統原子層沉積
    2024/8/22 13:47:571786
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