粉末ALD廠家 參考價:面議
粉末ALD廠家(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù),具...雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng) 參考價:面議
雙腔室高真空等離子體ALD設(shè)備是對ALD技術(shù)的擴展,通過等離子體的引入,產(chǎn)生大量活性自由基,增強了前驅(qū)體物質(zhì)的反應活性,從而拓展了ALD對前驅(qū)源的選擇范圍和應用...ALD 參考價:面議
桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的...