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四溫區回轉爐LFT1200C1600D100IV-R設備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長，該回轉加熱系統集控制系統與爐膛為一體。爐...

滑軌爐如圖所示,由開啟式真空管式爐根據特殊工藝要求而設計的，集控制系統與爐膛為一體，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。

單溫區立式滑軌爐設計為立式結構，爐體可電動滑動。預升溫的管式爐可快速移動到樣品區，實現樣品快速升溫反應。也可程序控制升溫，實驗擴張性好。反應氣體自上而下，爐管下...

大口徑封管機LQS01 D56/58設備主要用于實現樣品的無氧無水真空密封保存，整套系統由封管機、氫氧焰機及真空系統（客戶自備）等組成。該設備在真空條件下將石英...

單工位封管機,工位立式真空封管機主要特點：1、石英管與內置石英柱高溫熔接，標準化處理，重復性好。 2、石英管配合動密封系統自動旋轉，操作簡單，受熱均勻。3、真空...

單工位高真空封管機系統主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統由真空封管機、氫氧焰機、真空系統、石英管機管接頭組成，標準化定制石英管和石英柱保...

真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程...

1200系列八溫區真空管式爐LFT1200C2400D200VIII設備主要適用于中小批量材料在高溫條件下熱處理，集控制系統與爐膛為一體，保溫材料使用高純氧化鋁...

臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK設備設計為高通量實驗使用，設備有8套獨立的溫控系統溝通，8根獨立的石英管可同時參試8組不同實驗，...

此井式坩堝爐設備是集控制系統與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，最高發熱溫度可達1200℃。采用雙層殼體結構，配有風冷系統...

該設備為1400系列雙溫區立式管式爐，可兩段獨立控溫。根據實驗需求可得到兩段不同的溫場，也可得到超長恒溫區。

預加熱石英管真空封口系統主要用于實現樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統由真空封管系統、真空泵系統、分子泵系統、加熱系統、氫氧機等組成，標準化定制...

1200系列六溫區真空回轉爐主要適用于中小批量粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面生長，該回轉加熱系統集控制系統與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料...

碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質量流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統，紅外烘干系統等組成。

LFT系列 1600系列立式真空管式爐采用硅鉬棒進行加熱，設計針對于材料在真空或氣氛保護環境下對材料進行燒結，溫度可以達1600℃，采用雙層殼體結構，使得殼體表...

CVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，化學氣相沉積設備質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lb...

恒溫電熱鼓風干燥箱 箱體內均采用鏡面不銹鋼或拉絲板材料氬弧焊制作而成，箱體外采用優質鋼板材料，造型美觀、新穎。1.采用具有控溫保護、帶有定時功能的數字顯示微電腦...

立式高溫淬火爐如圖所示，集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，用于催化劑焙燒，方便催化劑裝填和轉移。

該石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一...

立式管式爐，高溫高壓管式爐集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。該設備采用立式結構設計，石英管豎直放置與爐膛內部，四...