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該石墨烯制備設(shè)備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預(yù)熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一...
立式管式爐,高溫高壓管式爐集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用電阻絲為加熱元件。該設(shè)備采用立式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),石英管豎直放置與爐膛內(nèi)部,四...
LFT1700C系列高溫真空管式爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用1800型真空成型高純氧化鋁聚輕材料,加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅鉬棒。
IFVM-1250真空箱式爐,真空氣氛箱式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu),爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料,廣泛應(yīng)用于材料金屬在低真空、還原性、保護(hù)性氣氛下的熱處理,也可用于特殊...
化學(xué)氣相沉積設(shè)備描述:CVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重10...
PECVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在...
立式雙工位石英真空封管機(jī)系統(tǒng)主要用于實(shí)現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成,整套系統(tǒng)由真空封管機(jī)、氫氧機(jī)、分子泵系統(tǒng)、石英管、連接接頭等組成、標(biāo)準(zhǔn)化定制石...
二維材料制備設(shè)備爐體小巧,升溫速度極快,它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護(hù)。其結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便,操作簡捷,使用者可直接將密封腔體移出爐體,加快降溫過程,透明...
石英管封管設(shè)備實(shí)現(xiàn)真空封管或惰性氣體封管,通過分子泵或者真空泵將裝有料粉試劑的石英管抽真空或者通入惰性氣氛,再通過氫氧焰對石英管進(jìn)行融封。
雙工位立式真空封管機(jī)主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成,封管機(jī)上有電磁閥,通電后處于常開狀態(tài),當(dāng)壓力達(dá)到設(shè)定壓力后,電磁閥自動關(guān)閉,停止進(jìn)氣。 標(biāo)...
感應(yīng)區(qū)域熔爐系統(tǒng)可調(diào)角度工位。石英玻璃管與感應(yīng)線圈采用整體式設(shè)計(jì),底部安裝電動機(jī)械機(jī)構(gòu)。
四工位封管系統(tǒng)主機(jī)含分子泵機(jī)組由使用封口機(jī)和高真空系統(tǒng)組成。此結(jié)構(gòu)為立式結(jié)構(gòu),石英管垂直固定,上端為動密封固定,上端固定裝置與下端支撐裝置為連軸聯(lián)動設(shè)計(jì),上下可...
LMF系列真空氣氛箱式爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁纖維材料,采用進(jìn)口合金電阻絲為加熱元件。是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工...
薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。該設(shè)備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠,溫場均勻,結(jié)構(gòu)合理,法蘭以卡箍密封,安裝拆卸簡便快捷,是各...
高溫?zé)崽幚碓O(shè)備是一款小型混合箱式/管式爐,作為單純的箱式爐可對樣品在空氣環(huán)境下進(jìn)行熱處理,作為管式爐可對樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行熱處理
供氣系統(tǒng)是一款2路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜最大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí),可...
鋰電負(fù)極設(shè)備集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空吸附成型高純氧化鋁聚輕材料,采用電阻絲為加熱元件。
新能源材料設(shè)備特點(diǎn):該設(shè)備是由開啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設(shè)計(jì)的,其滑軌式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)在實(shí)驗(yàn)過程中可滿足多種工藝要求
ZnO納米材料生長設(shè)備,由氣體流量計(jì)控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng),紅外烘干系統(tǒng)組成。
LVU-10低真空系統(tǒng) 其極限真空度為10-1Pa, 內(nèi)部安裝有雙級旋片機(jī)械泵BSV-10配套使用,其接口為KF25,并配有真空連接管路一套,電阻真空計(jì)ZDR-...
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