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簡單易操作
PHI GENESIS 提供了一種全新的用戶體驗，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。 操作界面可在同一個屏幕內設置常規和高級的多功能測試參數，同時保留諸如進樣照片導航和 SXI 二次電子影 像精準定位等功能。
簡單友好的 用戶界面
PHI GENESIS 提供了
一個簡單、直觀且易 于操作的用戶界面， 對于操作人員非常友 好，操作人員執行簡 單的設置操作即可完 成包括所有選配附件 在內的自動化分析。
多功能選配附件
原位的多功能自動化分析， 涵蓋了從 LEIPS 測試導帶到 HAXPES 芯能級激發 的全范圍技術，相比于傳統的 XPS 而言， PHI GENESIS 體現了好的性能價值。
全面的優良解決方案 :
高性能 XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多種其他 選配附件可以滿足所有表面分析需求。
多數量樣品大面積分析
- 多數量樣品大面積分析
- 把制備好樣品的樣品托放進進樣腔室后將自動傳送進分析腔室內
- 可同時使用三個樣品托
- 80mm×80mm 的大樣品托可放置多數量樣品
- 可分析粉末、粗糙表面、絕緣體、形狀復雜等各種各樣的樣品
獨1無2的可聚焦≤5μm 的微區 X 射線束斑
在 PHI GENESIS 中， 聚焦掃描 X 射線 源可以激發二次電子影像（SXI），利用 二次電子影像可以進行導航、精準定位、多點多區域同時分析測試以及 深度剖析。
大幅提升的二次電子影像 （SXI）
二次電子影像（SXI）精準定 位，保證了所見即所得。 5μmX 射線束斑為微區 XPS 分析應用提供了新的機遇。
快速深度剖析
PHI GENESIS 可實現高性能的深度剖析。聚焦 X 射線源、高靈敏度探測器、高性能氬離子槍和高效雙束中和系 統可實現全自動深度剖析，包括在同一個濺射刻蝕坑內進行多點同時分析。
高性能的深度剖析能力
( 下圖左 ) 全固態電池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地顯示了在 2.0 μm 以下富 Li 界面的存在。 ( 下圖右 ) 在 LiPON 膜沉積初期，可以看到氧從 LiCoO 2 層轉移到 LiPON 層中，使 Co 在 LiCoO 2 層富 Li 界面由 氧化態還原為金屬態。
角分辨 XPS 分析
PHI GENESIS XPS 的高靈敏度微區分析和高度可重
現的中和性能確保了對樣品角分辨分析的性 能。另外，樣品傾斜和樣品旋轉相結合，可同時實現角度的高分辨率和能量的高分辨率。
PHI GENESIS 多功能分析平臺在各種研究領域的應用
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