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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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UTM7305300kN微機控制電子式抗壓試驗機 簡單介紹：UTM7305微機控制電子抗壓試驗機是電子技術(shù)與機械傳動相結(jié)合的新型材料試驗機，它具有寬廣準(zhǔn)確的加載速度和測力范圍，對載荷、位移的測量和控制有較高的精度和靈敏度，還可以進行等速加載、等速位移的自動控制試驗。 產(chǎn)品型號：UTM7305 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UTM7105100kN微機控制電子式抗壓試驗機 簡單介紹：UTM7105微機控制電子抗壓試驗機是電子技術(shù)與機械傳動相結(jié)合的新型材料試驗機，它具有寬廣準(zhǔn)確的加載速度和測力范圍，對載荷、位移的測量和控制有較高的精度和靈敏度，還可以進行等速加載、等速位移的自動控制試驗。 產(chǎn)品型號：UTM7105 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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Tergeo-Pro 等離子系統(tǒng) 簡單介紹：Tergeo-Pro 等離子清洗機的應(yīng)用類似于較小的 Tergeo 等離子系統(tǒng)，不同之處在于它可以接受更大的樣品。 產(chǎn)品型號： 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UV-KUB 3UV-LED 的緊湊型掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng) 簡單介紹：UV-KUB 3 是一種基于掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)的 UV-LED，具有 365nm 的可用光源。 這是一個非常緊湊的桌面系統(tǒng)，兼容 4 英寸晶圓和 100x100 mm² 工作表面。 由于特定的光學(xué)裝置可提供最大發(fā)散角小于 2° 的準(zhǔn)直光束，因此可實現(xiàn)的最小特征尺寸為 2 µm。 產(chǎn)品型號：UV-KUB 3 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UV-KUB2UV-LED紫外掩膜曝光系統(tǒng) 簡單介紹：我們在Dilase 直接激光寫入光刻技術(shù)方面擁有豐富的經(jīng)驗，因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系統(tǒng)。 UV-KUB 2 是一種基于 UV LED 的曝光和掩膜系統(tǒng)，具有 365nm 的可用光源。 這是一款緊湊型的桌面系統(tǒng)，能夠曝光最大直徑為 4“ 或 6“ 的晶圓。 產(chǎn)品型號：UV-KUB2 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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SCIENTZ-CHF-5A/5B超聲波二維材料剝離器 簡單介紹：新芝生物SCIENTZ-CHF系列超聲波二維材料剝離器經(jīng)新芝生物技術(shù)研發(fā)團隊?wèi){借專業(yè)的超聲技術(shù)以及成熟儀器開發(fā)經(jīng)驗，經(jīng)過多年研制、反復(fù)測試而成。 產(chǎn)品型號：SCIENTZ-CHF-5A/5B 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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HSC-2015L高速冷凍離心機 簡單介紹：為滿足低溫樣本的分離、沉降等需求，新芝重磅推出一款臺式高速冷凍離心機（HSC-2015L）。結(jié)構(gòu)緊湊的HSC-2015L具有運行可靠、超低噪音、高強度密封性、制冷速度快等特點。并且可根據(jù)不同樣本的需求更換轉(zhuǎn)子，最小離心管可至 0.2ml（4*PCR8排管），最大離心管可至5ml（12*5ml），是一款性能*、用途廣泛、使用安全、操作簡單的高質(zhì)量產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號：HSC-2015L 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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SCIENTZ-50F中試型硅油原位凍干機 簡單介紹：真空冷凍干燥技術(shù)，在國內(nèi)也被稱為凍干技術(shù)。是指在真空條件下，固態(tài)物料不經(jīng)過液相直接升華為氣態(tài)進行干燥的過程。 產(chǎn)品型號：SCIENTZ-50F 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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ASUV-1100紫外可見分光光度計 簡單介紹：特點： ● 單波束型，采用易于觀看的彩色液晶。 ● 可搭載4個單元。 產(chǎn)品型號：ASUV-1100 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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微量瓶蒸發(fā)儀 簡單介紹：特點： ● 用于連續(xù)進樣時的微量瓶蒸發(fā)儀。 ● 可以多個樣品同時進行蒸發(fā)。 ● 使用針頭進氣，因此也能夠進行濃縮。 ● 針頭使用耐藥性和強度都較高的PEEK材質(zhì)，不使用時可以用附帶的密封栓來密封。 ● 可以更換管子的內(nèi)徑，調(diào)節(jié)流量，風(fēng)量。 產(chǎn)品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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EWS-100R經(jīng)濟型恒溫磁力攪拌水浴鍋/油浴鍋 簡單介紹：● 通過微電腦式反饋控制，可實現(xiàn)穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速控制。 ● 機體為工程塑料（NORYL樹脂R）制，因此具有很好的強度?耐熱性?耐藥品性。 ● 溫度和轉(zhuǎn)速可獨立操作，設(shè)置方便。 ● 過熱時強制斷開加熱器，并通過錯誤顯示通知用戶。 產(chǎn)品型號：EWS-100R 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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LTC-S300C低溫水循環(huán)CIRCULATOR LOW TEMP 簡單介紹：低溫循環(huán)水槽 CIRCULATOR LOW TEMP LTC-S300C LTC-S1400S ● 也可作為低溫恒溫水槽（開放式槽）使用。＜LTC-S300C＞ ● 桌上型的小型低溫循環(huán)水槽。 ● 內(nèi)置了最大揚程4.3m、最大流量9.2l/min的循壞泵。 ● 可向旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、索氏脂肪提取器、蒸餾?反應(yīng)裝置等供給穩(wěn)定的冷卻水。＜LTC-S1400S?S1400L通用＞ ● 體積小，但能確保1400 產(chǎn)品型號：LTC-S300C 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SCIENTZ-IID超聲波細胞粉碎機 簡單介紹：新芝系列超聲波細胞粉碎機（也叫超聲波破碎儀、超聲波乳化機）是一種利用超聲波在液體中產(chǎn)生空化效應(yīng)的多功能、多用途儀器；它能用于多種細胞、細菌、病毒及動植物組織的破碎，同時可用來乳化、分離、勻化、提取、消泡、清洗、納米材料的制備、分散及加速化學(xué)反應(yīng)等。廣泛用于生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、農(nóng)學(xué)、化學(xué)、材料學(xué)、制藥等領(lǐng)域的教學(xué)、科研、生產(chǎn)。目前在美國、韓國、印度、香港等實驗室均有“新芝"產(chǎn)品應(yīng)用。經(jīng)過二十多年的技術(shù)沉淀 產(chǎn)品型號：SCIENTZ-IID 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UV-210紫外線固化系統(tǒng) 簡單介紹：UV-210 旨在降低紫外固化膠的粘合強度。 它具有安全可靠的紫外光源，波長為 365 nm。 燈具工作時間由PLC控制，幫助操作人員及時更換燈具。 產(chǎn)品型號：UV-210 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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LCS半自動旋涂顯影刻蝕機 簡單介紹：LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發(fā)而設(shè)計，將是試點項目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復(fù)性以及簡單的操作和維護。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。 產(chǎn)品型號：LCS 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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DME-220模具矩陣擴展器 簡單介紹：DME-220 專為切割后的晶圓擴展而設(shè)計，以實現(xiàn)一致的芯片分離距離。晶圓擴展使拾取操作更容易并防止邊緣碎裂。 產(chǎn)品型號：DME-220 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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WCS-200晶圓清洗機 簡單介紹：WCS-200專為切割后的晶圓清洗而設(shè)計。該系統(tǒng)有兩種配置：最大8英寸的晶圓和最大12英寸的晶圓。 產(chǎn)品型號：WCS-200 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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WM-200晶圓貼片機 簡單介紹：WM-200 用于將無氣泡薄膜層壓到晶圓或方形基片上。它與UV固化膠或普通膠兼容（自動卷取和去除保護背襯是標(biāo)準(zhǔn)功能）。該系統(tǒng)配件包含易于更換的真空吸盤，適用于各種應(yīng)用（柔軟觸感、多面板等）。 產(chǎn)品型號：WM-200 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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M-150和P-150韓國Mask Aligner光刻機 簡單介紹：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。 產(chǎn)品型號：M-150和P-150 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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L-100和M-100韓國Mask Aligner光刻機 簡單介紹：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。 產(chǎn)品型號：L-100和M-100 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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