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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱(chēng) | |||
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美國(guó)Futurrex光刻膠 簡(jiǎn)單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國(guó)光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱(chēng)，從2000年至今年均增長(zhǎng)率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長(zhǎng)期與Intel實(shí)驗(yàn)室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進(jìn)美國(guó)各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機(jī)構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist電子束及深紫外光刻膠 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專(zhuān)門(mén)用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。 產(chǎn)品型號(hào)：ma-N 2400、mr-EBL 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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PR1系列Futurrex紫外正性光刻膠 簡(jiǎn)單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國(guó)光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱(chēng)，從2000年至今年均增長(zhǎng)率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長(zhǎng)期與Intel實(shí)驗(yàn)室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進(jìn)美國(guó)各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機(jī)構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號(hào)：PR1系列 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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NR9-P、NR9G-P、NR5Futurrex紫外負(fù)性光刻膠 簡(jiǎn)單介紹：Futurrex 成立于1985年，是美國(guó)光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱(chēng)，從2000年至今年均增長(zhǎng)率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長(zhǎng)期與Intel實(shí)驗(yàn)室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進(jìn)美國(guó)各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機(jī)構(gòu)產(chǎn)品。 產(chǎn)品型號(hào)：NR9-P、NR9G-P、NR5 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
