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UV-Writer無掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)PX 2917
PALET DDB-701日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器PX 3816
ABN-MLM-001無掩膜光刻機(jī)PX 4168
臺(tái)式光刻機(jī)PX 5137
德國海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫光刻機(jī)PX 3470
無掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 1560
C-43型 9英寸國產(chǎn)光刻機(jī)PX 5888
Nikon S207D掃描式光刻機(jī)PX 1900
PPS-8200p1/8300p1日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)PX 3464
FPKLOE-DILASE-3D3D激光直寫打印機(jī)PX 4497
全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)PX 1895
無掩模光刻機(jī)PX 2281
TTT-UV Litho-ACA高靈活性 科研版無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-Y教育版無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-BIO生命科學(xué)無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-S高速版無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-ACA科研版無掩膜光刻機(jī)PX 0
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)PX 5137
PALET DDB-701無掩膜光刻系統(tǒng)PX 3816
日本桌面臺(tái)式無掩膜光刻機(jī) PALET DDB-701PX 3816
C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)PX 5888
C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5888
C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備PX 5888
C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)PX 5888
C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5888
C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備PX 5888
C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5888
C-25型單面光刻機(jī) 高精度PX 5888
Nikon S208D掃描式光刻機(jī)PX 1900
UV Litho-ACA無掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 1900
Canon FPA5000 ES3掃描式光刻機(jī)PX 1900
Canon FPA5000 ES4掃描式光刻機(jī)PX 1900
MS6-CA手動(dòng)光刻機(jī)PX 1900
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻機(jī).PX 1900
ELS-HAYATE電子束光刻機(jī)PX 1900
ELS-BODEN Σ電子束光刻機(jī)PX 1900
ELS-BODEN電子束光刻機(jī)PX 1900
MLA 300無掩模對(duì)光刻機(jī)PX 1900
μMLA無掩模光刻機(jī)PX 1900
VPG 300 DI無掩模直接成像儀光刻機(jī)PX 1900
薄膜生長設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
臺(tái)式光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
德國海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫光刻機(jī)
無掩膜光刻機(jī)
無掩膜/激光直寫光刻機(jī)
無掩膜光刻系統(tǒng)
日本桌面臺(tái)式無掩膜光刻機(jī) PALET DDB-701
國產(chǎn)光刻機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營許可證
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