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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機> 臺式光刻機

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臺式光刻機

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臺式光刻機

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       江蘇雷博科學儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以高檔專業的實驗室儀器開發為目標的海歸創業企業。2020年8月,江蘇雷博科儀通過資源整合,將雷博科儀中發展起來的的工業半導體設備業務分拆出來成立了江蘇雷博微電子設備有限公司。兩家公司使用同一品牌 ,獨立經營不同系列產品。公司主營高檔實驗室儀器及半導體設備開發業務。公司技術力量雄厚,人才濟濟,憑借雄厚的技術實力不斷進行新產品開發和創新實現,在納米薄膜制備類儀器領域取得了顯著的市場地位。公司生產的高精度高可靠性勻膠機榮獲江蘇省高新技術產品,是國內勻膠機全系列、多功能、定制化服務的供應商。
       公司生產和銷售不同領域的高檔科研儀器和工業半導體設備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、烤膠機、提拉機、噴膠機、涂膜機、狹縫涂布機等相關產品;LEBO science®是我們的工業半導體設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、蝕刻機、去膠機、清洗機等獨立柜式機臺及工業全自動機臺。
       公司產品被廣泛應用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機光電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導體及先進封裝等領域,具有核心技術可靠、高性價比、定制化服務的競爭優勢。 

       公司目前團隊人數80多人,業績和規模處于快速擴展期,2013年起年銷售額一直保持快速增長,目前正準備二輪融資擴產。公司生產廠房設有裝配潔凈車間及黃光試驗區,其中生產區域約1500平方米,辦公及倉儲區域約1000平方米。

勻膠機,烤膠機,涂膜機,狹縫涂布機,紫外清洗機,電解雙噴儀

  臺式光刻機參數:
 
  1.最大曝光面積:160mm*160mm
 
  ⒉.曝光分辨率:1u m(膠厚≤0.5um的正膠)
 
  3.對準精度:± 1um(標準晶圓拋光片)
 
  4.光源強度:35mW/cm2
 
  5.曝光波長:LED光源(進口燈珠,壽命>1萬小時)
 
  6.曝光方式:定時(倒計時方式)
 
  7.掩模樣片相對運動范圍:X:優于±5mm;
 
  8.Y:優于±5mm;0:優于±6°
 
  9.掩模尺寸:7英寸,樣片規格:6英寸(晶圓片)
 
  10.數字設定對準間隙和曝光間隙
 
  11.掩模樣片分離間隙:6 =O-500um連續可調
 
  12.對準方式:自動對準,可根據客戶需求,增加對準標記的類型,累計不超過4組
 
  13.自動輸片:機械手自動輸片(專用樣片機械手臂及片叉),含預對準定位功能
 
  14.顯微掃描范圍:Y:± 40mm(數字設定)
 
  15.具備正壓氣浮曝光、硬接觸曝光、壓力接觸曝光,以及接近式曝光四種功能CCD+遠心鏡頭+顯示器對準,光學合像
 
  16.調平接觸壓力通過傳感器保證重復
 
  17.雙物鏡可調距離范圍:30mm-130mm
 


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