微型磁控濺射鍍膜設(shè)備
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/12/10 8:17:43
- 訪問(wèn)次數(shù) 1971
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光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
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微型磁控濺射鍍膜設(shè)備微型磁控濺射
這款來(lái)自美國(guó)的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對(duì)真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價(jià)比,可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。
微型磁控濺射鍍膜設(shè)備特點(diǎn)
小容量,快速重復(fù)工作流程;
活性沉積區(qū)域最大為200nm(8英寸)直徑;
適應(yīng)多種襯底;
可配備多個(gè)濺射源(最多至4個(gè));
連續(xù)沉積模式或聯(lián)合沉積模式;
不同工作氣體控制;
共焦陰極分布;
50mm,75mm, 或100mm磁控濺射源;
內(nèi)置陰極角傾斜;
陰極擋板;
直流,脈沖,高頻(HG或MF)電源;
襯底,加熱,冷卻,或者RF/DC偏壓;
可添加預(yù)抽室。
這款來(lái)自美國(guó)的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對(duì)真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價(jià)比,可以向客戶提供優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。
參考:
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽(yáng)極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。
優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)
常用的制備磁性薄膜的方法是磁控濺射法。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來(lái)沉積在基底表面上形成薄膜。通過(guò)更換不同材質(zhì)的靶和控制不同的濺射時(shí)間,便可以獲得不同材質(zhì)和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點(diǎn)。