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PVD 脈沖激光沉積鍍膜設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 科睿設備有限公司
  • 品牌 PVD
  • 型號 PVD
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2024/12/10 10:03:30
  • 訪問次數(shù) 7105

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科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理。科睿公司一貫秉承『誠信』、『品質(zhì)』、『服務』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設備,周到的技術(shù)、服務和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學研究、薄膜材料(包括半導體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設備平臺來實現(xiàn)。科睿設備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設在中國香港,在中國上海設立了分公司,在國內(nèi)多個城市設立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務。2010年,科睿設備有限公司在上海設立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務和后期的維修保障服務,我們擁有專業(yè)的應用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應,72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導體所,中科院大連化學物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學,清華大學,中國科技大學,南京大學,復旦大學,上海交通大學,華東理工大學,浙江大學,中山大學,西安交通大學,四川大學,中國工程物理研究院,香港大學,香港城市大學,香港中文大學,香港科技大學等。



光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應用領(lǐng)域 能源,電子,電氣

脈沖激光沉積鍍膜設備

(Pulse Laser Deposition System)
原產(chǎn)國:美國
PLD脈沖激光沉積鍍膜設備介紹:
PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。


我們PLD系統(tǒng)擁有好的性能價比,具體技術(shù)參數(shù)配置:
1.靶: 數(shù)量6個,大小1-2英寸,被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn),靶的選擇可通過步進電機控制;
2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時基板可旋轉(zhuǎn),工作環(huán)境大壓力是300mtorr;
3.基板加熱電源,高到1200度;
4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光,本底真空度<5e-8 pa;
5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光,本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機械泵;
7.閥門: 采用超高真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計;
9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;
10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分RHEED;
11.監(jiān)控軟件系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設定,基板和靶的旋轉(zhuǎn),靶的更換等;
12.各種電流導入及測溫端子;
13.其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺,磁力傳輸桿,超高真空法蘭,超高真空密封墊圈,超高真空用波紋管等;

用戶用少的錢買到研究級高性能的純進口PLD系統(tǒng)。




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