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等離子清洗機(jī)是將氣體電離產(chǎn)生等離子體對(duì)工件進(jìn)行表面處理，無(wú)論是進(jìn)行清洗還是表面活化，為達(dá)到最佳的處理效果我們會(huì)選用不同的工藝氣體。
等離子清洗機(jī)常用的工藝氣體有氧氣 (Oxygen, O2)、氬氣 (Argon, Ar)、氮?dú)?(Nitrogen, N2)、壓縮空氣 (Compressed Air, CDA)、二氧化碳(Carbon, CO2)、氫氣（hydrogen, H2）、四氟化碳（Carbontetrafluoride, CF4等。
氧氣
氧氣是等離子清洗常用的活性氣體，屬于物理+化學(xué)的處理方式，電離后產(chǎn)生的離子體能夠?qū)Ρ砻孢M(jìn)行物理轟擊，形成粗糙表面。
同時(shí)高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成活性基團(tuán)的親水表面，達(dá)到表面活化的目的；被斷鍵后的有機(jī)污染物的元素會(huì)與高活性的氧離子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成CO、CO2、H2O等分子結(jié)構(gòu)脫離表面，達(dá)到表面清洗的目的。
氫氣
氫氣與氧氣類似，屬于高活性氣體，可以對(duì)表面進(jìn)行活化及清洗。氫氣與氧氣的區(qū)別主要是反應(yīng)后形成的活性基團(tuán)不同，同時(shí)氫氣具有還原性，可用于金屬表面的微觀氧化層去除且不易對(duì)表面敏感有機(jī)層造成損壞。
所以在微電子、半導(dǎo)體及線路板制造行業(yè)使用較廣。
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