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應(yīng)用案例 | 超細銅絲的不同截面金相制備

時間:2024/7/3閱讀:179
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銅絲延展性好、導(dǎo)電性能優(yōu)良、成本低,因此廣泛應(yīng)用于電子、通訊、電力傳輸?shù)阮I(lǐng)域。通過一定工藝形成的銅絲,其組織結(jié)構(gòu)影響著各項物理、化學(xué)等性能,通過金相制備可獲得銅絲不同截面上的組織結(jié)構(gòu)形貌,便于進一步分析它的性能。

本文就直徑約30 μm的超細銅絲,提供了一種超細銅絲縱截面的金相制備方法,以供參考。


01 固定銅絲

首先需要找一塊平整的襯底,長寬在20 mm以內(nèi)即可,本次實驗用到的襯底是PCB板。然后在體式鏡下用百得膠將銅絲兩端粘在襯底上,在膠水固化前用鑷子將銅絲輕輕拉直,直到膠水固化,使得銅絲中段保持平直狀態(tài)。

02 鑲嵌

為使銅絲得到充分的保護,需要采用冷鑲嵌的方式。將樣品粘了銅絲的一面朝下放置,整體鑲成25 mm直徑大小,如下圖所示。


03 磨拋

研磨與拋光采用標樂的手自一體磨拋機EcoMet30的半自動模式。參數(shù)如下表所示。

表1.機械磨拋參數(shù)



步驟1~3作為定位的步驟,主要目的是磨近銅絲中線位置,但每一步仍需要科學(xué)地去除損傷。步驟1和步驟2需要通過手動來研磨,避免因為砂紙粒徑太大而容易磨過的情況。

9 μm自動拋光步驟可以選擇每拋光1min觀察一次,直至銅絲截面寬度約為30 μm。3 μm拋光步驟去除9 μm拋光步驟的損傷即可,這一步對材料的去除能力很小,此時銅絲截面寬度變化不大。最后用0.05 μm拋光步驟去除3 μm拋光步驟留下的損傷。



04 腐蝕


腐蝕液配方為:三氯化鐵 5 g、鹽酸50 ml、蒸餾水 100 ml,腐蝕時間約為60 s。




05 顯微觀察


最終結(jié)果如下圖:

圖3.腐蝕后的金相圖




經(jīng)過金相制備,可獲得銅絲不同截面上的組織結(jié)構(gòu)形貌。




06 備注


1) 銅絲橫截面的金相可以輕易制備,由于直徑過小,沿直徑方向進行縱截面研磨容易磨過,因此定位研磨很重要,每一步的研磨或拋光都需要控制好去除量。

2) 為方便定位,可以在“固定銅絲"步驟,交叉粘上兩層銅絲,用第一層作為參考,可以快速地磨至第二層。

3) 以上研磨與拋光參數(shù)僅供參考,可根據(jù)具體材料情況進行調(diào)整。



所用設(shè)備


標樂手自一體研磨 EcoMet30


EcoMet30專為連續(xù)使用的實驗室環(huán)境而設(shè)計,并經(jīng)過了大量的測試。具有可編程、用戶友好型觸摸屏,確保良好的質(zhì)量和可重復(fù)性。它有單盤和雙盤兩種型號,適合多用戶使用;最多可集成 3 個 Burst 拋光液配送模塊,實現(xiàn)任務(wù)自動化,使用戶能夠騰出時間處理其他優(yōu)先事項。


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