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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    葉盛
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
    編:
    個(gè)化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://yis360.com/st119375/
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    [供應(yīng)]掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)
    掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2024-12-17 09:03:30
    有效期:
    2024年12月17日--2025年6月19日
    已獲點(diǎn)擊:
    446
    【簡(jiǎn)單介紹】*MYCRO掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),包含EM-5026M1, EM-5086, EM-5026B,EM-5026AM四個(gè)型號(hào),是*的光刻系統(tǒng)
    【詳細(xì)說(shuō)明】

     

    *MYCRO掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),包含EM-5026M1, EM-5086, EM-5026B,EM-5026AM四個(gè)型號(hào),是的光刻系統(tǒng),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;并且該系列的掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)已經(jīng)被眾多*企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,作為他們光刻系統(tǒng)的*;其優(yōu)秀的技術(shù)、*的工藝和良好的服務(wù),贏得了廣大用戶的青睞。
    作為光刻系統(tǒng),zui重要的技術(shù)在于以下兩個(gè)方面:掩模-晶圓片對(duì)準(zhǔn),以及將掩模版上的圖案復(fù)制到晶圓片上,為下一步進(jìn)行可是或者離子注入工序做好準(zhǔn)備。
    MYCRO/光刻系統(tǒng)的曝光方式,是采用可調(diào)節(jié)壓力的接觸式曝光,有效降低了光刻膠對(duì)掩模版的污染以及掩模版的磨損,從而提高掩模版的壽命。因此,MYCRO紫外曝光機(jī)/光刻系統(tǒng)以其*的性價(jià)比而讓人印象深刻。
     
    /光刻系統(tǒng)的組件主要包含:
    紫外光源構(gòu)造
    帶托盤的晶片工作臺(tái)
    CCD鏡頭的顯微鏡
    監(jiān)視器
    掩膜夾具
    紫外光源透鏡
    紫外光源鏡片
    紫外燈電源系統(tǒng)
    操作控制器
    350W紫外燈
     
    需要更詳細(xì)的產(chǎn)品資料,
    請(qǐng)與邁可諾技術(shù)有限公司中國(guó)營(yíng)銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室!
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    : sales@mycro.com.cn website: http://www.mycro。。com.cm      


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