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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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污染物對電子顯微鏡SEM/TEM和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響
潤滑劑、真空脂、泵油樣品中的高分子聚合物，或未經(jīng)處理的空氣都會把碳?xì)湮廴疚镆秸婵障到y(tǒng)中。低蒸汽壓下高分子重污染物會凝聚在樣品表面和腔室壁上，而使用普通氣體吹掃方法很難把碳?xì)湮廴疚锴宄?/span>
電子和高能光子(EUV, X-ray)能夠分解存在于真空系統(tǒng)中或樣品上的碳?xì)湮廴疚铩Ｌ細(xì)浠衔锏姆纸猱a(chǎn)物沉積在被觀測的樣品表面或電子光學(xué)部件上。這種碳?xì)湮廴境练e會降低EUV的鏡面反射率，降低SEM圖像對比度和分辨率，造成錯誤的表面分析結(jié)果，沉積在光闌或其它電子組件的不導(dǎo)電碳?xì)湮廴疚锷踔習(xí)斐呻娮邮恢没蚓劢咕徛啤Ｔ?/span>ALD系統(tǒng)中，樣品表面的碳?xì)湮廴疚镞€會降低薄膜的界面匹配質(zhì)量。
遠(yuǎn)程等離子清潔的原理
遠(yuǎn)程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上，控制器向遠(yuǎn)程離子源提供射頻能量。射頻電磁場能激發(fā)等離子體，分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基，活性基會擴(kuò)散到下游的真空腔室，并與其中的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物能輕易地被抽走。遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)可同時清潔真空系統(tǒng)和樣品。
技術(shù)特點(diǎn)：
快速清潔被污染的SEM樣品。2-60秒氫等離子體清潔ALD樣品。不需減速或關(guān)閉渦輪分子泵
低等離子偏壓設(shè)計(jì)減少離子濺射和顆粒生成。結(jié)合多級氣體過濾技術(shù)，SEMI-KLEEN能夠滿足用戶苛刻的顆粒污染清除要求
可選藍(lán)寶石管腔體和耐腐蝕性氣體的流量控制器，以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等應(yīng)用
*的等離子強(qiáng)度傳感器可實(shí)時監(jiān)測等離子狀態(tài)，用戶對等離子狀態(tài)一目了然
基于壓力傳感回饋控制的自動電子流量控制器，無需手動調(diào)節(jié)針閥
直觀的觸摸屏操作，可定義60條清洗程序方案
擁有智能安全操作模式和專家控制模式；SmartScheduleTM定時裝置，通過檢測樣品裝載次數(shù)或時間間隔來定時清潔系統(tǒng)
低電磁干擾設(shè)計(jì)，安靜的待機(jī)模式
一. *功能
1. *的等離子技術(shù)，可以在小于0.1毫托的氣壓下點(diǎn)火并且保持穩(wěn)定的等離子體。低工作氣壓比其他同類產(chǎn)品低10到100倍。低氣壓清洗速度更快，更均勻，對電子槍和分子泵更安全；
2. 即時等離子起輝技術(shù)。不用像在其他同類產(chǎn)品上那樣擔(dān)心等離子是不是成功起輝；
3. 帶氣壓計(jì)的自動氣體流量控制；
4. 實(shí)時測量等離子強(qiáng)度，用戶可以根據(jù)這個實(shí)時反饋來優(yōu)化清洗配方；
5. 自動射頻匹配實(shí)時保證優(yōu)化射頻耦合，即使用戶調(diào)節(jié)清洗配方；
6. 雙層顆粒過濾器設(shè)計(jì)保證我們的產(chǎn)品滿足Intel，臺積電，三星等半導(dǎo)體用戶的嚴(yán)格顆粒污染要求；
7. 帶LCD觸摸屏的直觀操作界面；
8. 微電腦控制器帶可修改的智能清洗計(jì)劃，設(shè)好就自動清洗您的系統(tǒng)；
9. 支持清洗配方，一鍵開始，自動射頻匹配，自動控制氣體流量；
10. 微電腦控制器可記錄所有信息狀態(tài)，便于系統(tǒng)維護(hù)。
二. 技術(shù)指標(biāo)
1. 等離子源真空接口：NW/KF40 法蘭; 提供轉(zhuǎn)接法蘭；
2. 標(biāo)配等離子強(qiáng)度傳感器；
3. 等離子源低點(diǎn)火起輝氣壓：<0.1毫托；
4. 等離子源高工作氣壓：>1.0 托；
5. 漏氣率：<0.005sccm；
6. 射頻輸出：0~100瓦，連續(xù)可調(diào)節(jié)；
7. 具有射頻自動匹配功能
8. 電源和功率：220V, 50Hz,
