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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>干法工藝設備>等離子體刻蝕設備>RIE-230iP 等離子體(ICP)刻蝕設備

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RIE-230iP 等離子體(ICP)刻蝕設備

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式,高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型ICP蝕刻系統。該系統通過采用的龍卷風式線圈電,高效地產生穩定的高密度等離子體,可對硅及各種金屬薄膜和化合物半導體進行高精度的各向異性蝕刻。此外,?230mm的托盤可同時處理多種化合物半導體。

2. 設備用途/原理

GaN、GaAs、InP等化合物半導體的高精度加工。鐵電材料、電材料等難蝕材料的加工。

3. 設備特點

龍卷風線圈電,它能有效地產生穩定的高密度等離子體,使蝕刻具有高選擇性、高精度和良好的均勻性。低損傷工藝,通過ICP產生高密度的等離子體,實現了低偏置、低損傷的工藝。溫度控制電調和He冷卻的平臺和反應室內側壁的溫度控制使蝕刻在穩定的條件下進行。


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