新型微聚焦單色化X射線源可實現以 5 μm 步長的 10 μm 至 400 μm 的 X 射線光斑大小連續可調，從而確保將分析束斑調節至與目標特征匹配。利用升級的X 射線源、高效的電子透鏡和優化的檢測器，可實現靈敏度和高效的數據采集。

Nexsa G2 系統上的一鍵式自動電荷補償系統可輕松實現絕緣樣品分析。雙束中和源避免絕緣樣品發生荷電，因為使用極低能量的電子，大多數情況下將無需進行荷電校正。

Nexsa G2 系統配備有標準離子源或 MAGCIS（可選的單粒子和氣體團簇復合型離子源) 進行深度剖析。自動離子源優化和氣路控制可確保性能和實驗重現性。

使用 Nexsa G2 系統，所有技術將觸手可及，一套系統全面分析您的樣品。標準配置具備高性能 XPS 所需的所有功能，ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術集于一身。升級選項可將系統轉換為完整的分析工作站，有助于解決材料分析問題，提高生產效率。

Nexsa G2增加了多種樣品臺可選，以滿足科研的特殊應用需求。特殊可選樣品臺有：NX 加熱臺，用于原位的樣品加熱分析；多觸點偏壓樣品臺，可實現樣品在真空系統中的施加電壓，偏壓或循環電極后的XPS原位分析；惰性氣體轉移腔，可實現空氣敏感樣品的真空/惰性氣體保護轉移；MCA樣品臺，用于XPS+SEM的關聯分析，實現XPS技術和電子顯微技術對樣品的同一個分析區域采集數據，并進行比對分析。