化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>試劑標(biāo)物>常用實(shí)驗(yàn)試劑>其它常用實(shí)驗(yàn)試劑>AZ ® 300MIF AZ 400K Dev 光刻膠配套顯影液
AZ ® 300MIF AZ 400K Dev 光刻膠配套顯影液
- 公司名稱 武漢市洪山區(qū)萊博茲科學(xué)儀器經(jīng)營(yíng)部
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) AZ ® 300MIF AZ 400K Dev
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2021/3/18 15:00:00
- 訪問(wèn)次數(shù) 594
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供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源 |
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AZ ® 300MIF 為2.38%TMAH(四甲基氫氧化銨)
AZ 400K MIC基于緩沖的KOH,通常以1:4稀釋度使用
AZ ® EBR溶劑
PGMEA = EBR溶劑(乙酸1-甲氧基-2-丙酯)
PGMEA為溶劑/稀釋劑幾乎所有AZ的® 和TI光致抗蝕劑,由于其低蒸汽壓力和它在顆粒形成抑制(進(jìn)一步稀釋)抗蝕劑。另外,由于PGMEA的低蒸氣壓阻止了涂覆的抗蝕劑膜的進(jìn)一步變薄,因此它通常用于去除邊緣的珠粒。
AZ ® 100去膠液
是基于溶劑和胺。用于光致抗蝕劑具有低位進(jìn)攻鋁剝離。使用乙醇胺可降低危害。
低蒸發(fā)速率允許在高溫(80°C)下使用,高效率(每升> 3000個(gè)晶片)有助于節(jié)省成本。不用擔(dān)心鋁的侵蝕,甚至可以用水稀釋。
SU 8 Dev su8膠配套顯影液