EVG^®6200 NT

SmartNIL UV Nanoimprint Lithography System

EVG®6200NT   SmartNIL UV納米壓印光刻系統

具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統，采用EVG專有的SmartNIL®技術，大可達150 mm

技術數據

這些系統以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以小的占地面積提供了新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時間以及高效的服務和支持使它們成為任何研發環境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對齊和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

SmartNIL是行業的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。 SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。 EVG的SmartNIL兌現了納米壓印技術的長期前景，納米壓印技術是一種用于大規模生產微米級和納米級結構的低成本，高產量的替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板

特征

頂側和底側對齊能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和配方控制的曝光間隙

支持新的UV-LED技術

小化系統占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

附加功能：鍵對齊、紅外對準、

智能NIL®

µ接觸印刷

EVG6200NT技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL®：大150毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程

柔軟的UV-NIL和SmartNIL®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準

軟NIL：≤±0.5 µm

SmartNIL®：≤±3 µm

自動分離

柔紫外線NIL：不支持

SmartNIL®：受支持

工作印章制作

柔軟的UV-NIL：外部

SmartNIL®：受支持