光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
勻膠機、旋涂儀(德國產、高性能)
儀器簡介:
德國品質(配有防污染內襯,標配兩個大小吸盤,性能優于美國同類品牌)
SPIN150i單片勻膠機/旋涂儀具有廣泛應用,包括 甩干,沖洗,清潔,涂膠。臺式設計,無縫全塑料材質, 有天然聚丙烯(NPP)和聚四氟乙烯材質(PTFE)可選。有各種吸盤,適合樣品襯底5mm--?160mm (or 6”) or 4"x4". 更大尺寸均有!!
勻膠機、旋涂儀(德國產、高性能)
技術參數:
最大樣品尺寸: 160mm
最大腔體直徑: 202mm
伺服控制馬達
程序數字處理控制器:
存儲50個程序,每個程序可設計99步菜單指令
轉速 1-12000 rpm
2 free programmable outputs (dry contacts)
儀器尺寸: 275 (w) x 240 (d) x 450 (h) mm
各種樣品尺寸的臺式勻膠機(最大至1000mm!)
天然聚丙烯材質(Natural Polypropylene Models)
化學膠 注射 | 應用 VS. 型號 | 甩干 | 沖洗 | 清潔 | 刻蝕 | 手動涂膠 | 自動涂膠 | 顯影 | 樣品襯底尺寸 |
手動注射 | SPIN150i | 最大至 ?160mm (or 6") OR 4”x4” | |||||||
SPIN150i-IND | |||||||||
SPIN200-NPP | 最大至 ?260mm (or 8") OR 6”x6” | ||||||||
SPIN200-IND | |||||||||
自動注射 | ACD200-NPP | ||||||||
ACD200-NPP-IND | |||||||||
手動注射 | MCD300-NPP | 最大至 ?360mm (or 12") OR 8"x8" | |||||||
MCD300-NPP-IND | |||||||||
自動注射 | ACD300-NPP | ||||||||
ACD300-NPP-IND |
主要特點:
最高轉速12000rpm而無振動
結構緊湊,臺式機
此勻膠機可以集成到其它系統中
無縫天然聚丙烯(NPP)材質適合多數化學膠體,清潔方便
對強腐蝕的化學試劑可選用聚四氟乙烯材質的勻膠機
大的操作面板使程序輸入簡便,即使戴上手套也可以操作
數字式處理控制器,可以精準,高重復性控制
大量程序可編輯,使復雜的涂膠工藝變的靈活
Programmable Relays, allowing process controlled interfacing with external hardware
德國品質(配有防污染內襯,標配兩個大小吸盤,性能優于美國同類品牌)