多種樣品倉

MIRA3場發(fā)射掃描電鏡可配置LM、XM或GM三種樣品室。所有的MIRA樣品室（LM、XM或GM）提供優(yōu)秀的5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)全計(jì)算機(jī)化優(yōu)中心樣品臺，完善的幾何設(shè)計(jì)更適合安裝能譜儀（EDS），波譜儀（WDX），電子背散射衍射（EBSD）。XM和GM樣品室適用于大樣品的分析。

電子束減速技術(shù)（BDT）

低能電子束能夠顯示樣品非常精細(xì)的表面細(xì)節(jié)，而這些表面細(xì)節(jié)在高能電子束下往往是觀察不到的。但是，掃描電子顯微鏡*的電子光學(xué)性能需要在高加速電壓下才能實(shí)現(xiàn)。BDT技術(shù)結(jié)合二者的優(yōu)勢，保持在鏡筒內(nèi)的高加速電壓，同時(shí)在與樣品相互作用之前減速到低能量。

的電子束減速技術(shù)（BDT），包括減速模式（BDM）和創(chuàng)新的In-Beam探測器，它在標(biāo)準(zhǔn)模式下檢測高角度BSE信號，在BDM下檢測SE信號。

電子束減速技術(shù)在低加速電壓下顯著提高了分辨率并優(yōu)化了檢測信號，zui低可以實(shí)現(xiàn)50eV的著陸能量。

等離子清洗裝置

可選等離子清洗裝置可有效的防止揮發(fā)性碳?xì)浠衔锓肿优c掃描過程中的電子束在觀察的試樣表面和樣品室形成黑色的污染層，可以幫助獲得*的高質(zhì)量圖像。

*的硬件設(shè)計(jì)

高亮度肖特基電子槍可獲得高分辨率、高電流、低噪音圖像

*的三透鏡大視野觀察（Wide Field Optics™）設(shè)計(jì)

可選的In-Beam探頭可獲得特高分辨率圖像

使用3維電子束技術(shù)，實(shí)時(shí)得到立體圖像，三維導(dǎo)航

以電磁的方式改變物鏡光闌——中間鏡的作用如同"光闌轉(zhuǎn)換器"

透鏡與線圈的優(yōu)質(zhì)材料使成像率達(dá)到20ns/像素，并減少了動(dòng)態(tài)扭曲效應(yīng)

結(jié)合了完善的電子光學(xué)設(shè)計(jì)軟件的實(shí)時(shí)電子束追蹤（In-Flight Beam Tracing™），可模擬和優(yōu)化電子束。

用戶界面友好的軟件與軟件工具

多語言、多用戶界面（包括了EasySEMTM模式）使常規(guī)分析過程更快

內(nèi)置的系統(tǒng)檢查與系統(tǒng)診斷

網(wǎng)絡(luò)操作與遠(yuǎn)程進(jìn)入/診斷

模塊化軟件體系結(jié)構(gòu)