超聲波清洗機(jī)的高頻和低頻區(qū)別，主要區(qū)別在于適用清洗對象不一樣；所表現(xiàn)的主要清洗作用隨著頻率越高，表現(xiàn)的作用力也不一樣；以及頻率范圍均有不同。超聲波頻率區(qū)別，高頻清洗頻率一般在50-200kHz之間，工業(yè)上常用的高頻頻率為80kHz，高頻超聲波的能量集中，穿透力強(qiáng)；低頻清洗頻率一般在20-50kHz之間，或者中低頻范圍，工業(yè)上常用的低頻頻率為28kHz，低頻超聲波在液體中產(chǎn)生的空化效應(yīng)較為顯著，并且伴隨較大的噪音和潛在的工件損傷風(fēng)險。

    超聲波清洗機(jī)高低頻區(qū)別，主要圍繞清洗對象和清洗作用介紹：

    1、清洗對象

    高頻超聲波清洗機(jī)

    更適用于對表面光澤度要求高、表面復(fù)雜盲孔較多的工件，如電子零件、磁性材料、半導(dǎo)體硅片、納米鍍膜、納米材料等。

    低頻超聲波清洗機(jī)

    適用于大型部件表面、污物與表面結(jié)合度較高的工件、表面光澤度要求不高的物件，例如車輛發(fā)動機(jī)、閥門等硬質(zhì)大工件，或者實驗室中大顆粒粉末的溶解分散。

    2、清洗作用

    高頻超聲波清洗機(jī)

    當(dāng)超聲波的頻率增加到幾百千赫的高頻時，波長短了，λ=0.7~1.5mm，聲場中質(zhì)點的稠密區(qū)與稀疏區(qū)界線模糊，液態(tài)聲場中空化現(xiàn)象幾乎消失，超聲能量表現(xiàn)為媒質(zhì)質(zhì)點加速度能量。例如在硅晶片及光刻清洗中，使用950kHz超聲波，兩個波峰之間的時間僅為1.05μs，不足以形成空化泡，但能量將達(dá)到重力加速度的10倍，兆級超聲波清洗體現(xiàn)在液態(tài)質(zhì)點對工件表面每秒95萬次的精細(xì)擦洗上。

    這足以使清洗液迅速擴(kuò)散到基片（工件）與粒子（污物）之間，使工件表面水化，變得濕潤。液膜作用如同尖劈，使粒子從基片脫落，同時液膜也進(jìn)一步防止了粒子對基片的二次吸附，這對去除亞微米粒子很有效果。

    低頻超聲波清洗機(jī)

    超聲波是一種機(jī)械波，是機(jī)械振動在媒質(zhì)中的傳播。當(dāng)超聲波在液體中傳播時，液體質(zhì)點受到聲波的擾動后會在其平衡位置附近做微小振動，液體質(zhì)點沒有宏觀上的移動和遷移，但其振動速度和加速度很大。例如聲強(qiáng)為1.0W/cm²、頻率為20kHz的超聲波在水中傳播，如果液體質(zhì)點位移振幅為5m，則質(zhì)點要經(jīng)受壓力在正負(fù)1.68atm之間以每秒2萬次的重復(fù)頻率做周期性變化的作用，質(zhì)點振動速度約為0.63m/s，而振動的加速度達(dá)到7.9x10⁴m/s²，大約為重力加速度的8000倍。

    這樣激烈而快速變化的機(jī)械運動，對于附著在固體表面的灰塵等不溶性固體顆粒，強(qiáng)大的剪切作用足以使固體顆粒從待清洗物體表面脫落，從而達(dá)到清洗的目的。

    不論是高頻還是低頻超聲波清洗機(jī)，選擇具體參數(shù)時，應(yīng)根據(jù)被清洗物件的特點和清洗要求來決定使用低頻還是高頻的超聲波清洗機(jī)。