日本進口Ushio牛尾VUV-S172-LES紫外線清洗裝置

1.簡介

UV/O3清洗是使用紫外線產生活性氧，同時分解、氧化揮發除去附著在基板表面的有機物的干清洗方法。這是對放置在大氣中的基板照射真空紫外線的簡便方法，進入20世紀80年代后半期，隨著LCD產業的發展而被導入到制造工序中。作為濕處理的前工序、成膜工序的前清洗等使用，光源使用低壓水銀燈。

近年來，要求基板尺寸的大型化、處理時間的縮短化，準分子光照射裝置是為了滿足該要求而開發的。

UV/O3清洗的原理如下所示。

光的波長越短，其能量越大，分解有機物（CmHnOk）的能力越好。因此，172nm準分子光的清洗能力優于現有的低壓汞燈。

2.光源和特征

本裝置是搭載了中心波長為172nm的Xe2*準分子燈的準分子光源。

概述裝置的結構。

基本結構如圖1所示。在金屬塊上設置的多個圓筒槽上固定有準分子燈。金屬塊包括冷卻水流路以允許水冷，燈通過金屬塊冷卻。在燈和燈之間設置有山形的反射鏡，在使窗面的放射照度分布均勻的同時起到有效地取出光的作用。燈、金屬塊、山形鏡被收納在金屬容器內。金屬容器具有氮氣的入口、出口，容器內充滿對準分子光吸收少的氮氣。在燈的前面設置有有效透過真空紫外光的窗玻璃（合成石英），由窗玻璃照射準分子光。

作為光源的特征

①不損害壽命，可瞬間點燈點燈點燈

②溫度上升少，可以進行低溫處理

③由于是平面窗，清掃性好，維護性好

這樣的點。不損害壽命地能夠進行閃爍點燈意味著僅在必要時點燈即可，實質上導致長壽命化，燈更換次數減少即可。照片1是具有750mmx940mm的窗的照射裝置UER759412-172的照片。UER759412-172的概略規格如表.1所示。

隨著基板尺寸的大型化，統一曝光清洗方式變得困難，現在提出了掃描方式的高輸出單元。最大對應掃描寬度1040mm，窗面輻照度MAX50～60mW/cm2。批量曝光方式、掃描方式都根據用途設計對應。