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等離子去膠機是一種干法去膠技術，它利用等離子體中的高能粒子對光刻膠進行轟擊，使其發生化學反應和物理剝離，從而實現去除光刻膠的目的。相比于化學去膠，等離子去膠機具有以下優勢：
1、高效性：去膠速度較快，可以在較短的時間內完成大量樣品的處理。而化學去膠通常需要較長的時間才能去除光刻膠。
2、環保性：不需要使用有害的化學試劑，因此在處理過程中不會產生有毒廢物，對環境的影響較小。而化學去膠需要使用有機溶劑，如丙酮、異丙醇等，這些溶劑對環境和操作人員的健康都有一定的危害。
3、可控性：也可以通過調節等離子體的參數(如功率、氣壓、氣體種類等)來控制去膠的速度和效果，實現對去膠過程的精確控制。而化學去膠的過程受到多種因素的影響，如溶劑的種類、濃度、溫度等，其可控性相對較差。
4、兼容性：適用于各種類型的光刻膠，包括正膠、負膠、厚膠等，且對底層材料的損傷較小。而化學去膠可能對某些光刻膠或底層材料產生不良影響，如溶解、膨脹等。
5、工藝集成：還可以與其他等離子體工藝(如等離子體清洗、等離子體蝕刻等)集成在同一設備中，實現全自動化生產，提高生產效率。而化學去膠通常需要單獨的設備和工藝步驟，增加了生產的復雜性。
然而，等離子去膠機也存在一些局限性，如設備成本較高、對操作人員的技能要求較高等。因此，在選擇去膠方法時，需要根據實際需求和條件綜合考慮。
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