臺(tái)階儀:亞埃級(jí)垂直分辨率,新材料納米加工的測(cè)量利器!
臺(tái)階儀亞埃級(jí)垂直分辨率能夠?qū)崿F(xiàn)納米級(jí)別的測(cè)量和分析,儀器具備出色的精確性和穩(wěn)定性。在納米加工領(lǐng)域,臺(tái)階儀不僅能準(zhǔn)確評(píng)估材料的表面形貌和結(jié)構(gòu),同時(shí)也為納米加工過(guò)程的控制和優(yōu)化提供了可靠的依據(jù)。利用臺(tái)階儀實(shí)時(shí)觀測(cè)材料表面的微觀變化,并對(duì)其進(jìn)行全面的分析和表征,這對(duì)于了解材料的晶體結(jié)構(gòu)和電子性質(zhì)等方面至關(guān)重要。
CP系列臺(tái)階儀線性可變差動(dòng)電容傳感器(LVDC),具有亞埃級(jí)分辨率,13um量程下可達(dá)0.01埃。高信噪比和低線性誤差,使得產(chǎn)品能夠掃描到幾納米至幾百微米臺(tái)階的形貌特征。具有出色的重復(fù)性和再現(xiàn)性,可以準(zhǔn)確測(cè)量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。
測(cè)量功能
(1)臺(tái)階高度:能夠測(cè)量納米到330μm甚至1000μm的臺(tái)階高度
(2)粗糙度與波紋度:能夠測(cè)量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過(guò)計(jì)算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余項(xiàng)參數(shù);
(3)翹曲與形狀:能夠測(cè)量樣品表面的2D形狀或翹曲,如在半導(dǎo)體晶圓制造過(guò)程中,因多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化,或者類(lèi)似透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。
臺(tái)階儀的應(yīng)用,不僅能幫助科研人員解決納米材料表面形貌難題,還為納米加工提供了重要參考。此外,臺(tái)階儀還具有適用范圍廣的優(yōu)點(diǎn)。它對(duì)測(cè)量工件的表面反光特性、材料種類(lèi)、材料硬度都沒(méi)有特別要求。
臺(tái)階儀具有測(cè)量精度高、測(cè)量速度快、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),它的應(yīng)用不僅能夠提高納米加工的效率和質(zhì)量,同時(shí)也為材料工程領(lǐng)域的研究提供了新的視角。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類(lèi)作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。