電子行業的發展為現代生活提供了極大的便利，電子芯片更是讓整個世界遠離了單純依靠人力的時代。掌握了芯片技術，某種程度上講就是掌握了現代IT技術的基礎。而除了廠房硬件，芯片制造還需要不斷消耗的基礎高純化學材料。
7月1日日本對韓國進行半導體制造過程核心材料氟化聚酰亞胺、光刻膠、高純度氟化氫等產品的出口管制，把高純化工材料的問題推上了浪尖。賽默飛離子色譜，滿足半導體級別試劑的檢測要求，協助化工企業提高標準。
電子級HF
電子級HF應用于集成電路和超大規模集成電路芯片的清洗和腐蝕，是微電子行業制作過程中的關鍵性基礎化工材料之一。根據用途的不同，電子級HF主要分為EL、UP、UPS、UPSS等級別，其中UPSS級別是目前zui高純度級別。鋪建完整的UPSS級HF產線，將使企業處于供應鏈頂端，擁有較大的話語權。
SEMI標準中，zui高級別HF中一般要求氯化物、硝酸鹽、硫酸鹽和磷酸鹽濃度不高于0.1mg/kg，企業自定標準中有些已經要求達到0.01mg/kg，基質和目標物濃度差超過10?:1。這不僅挑戰著產線工藝水平，亦挑戰著分析監測水平。
在高HF基體條件下，如何測定痕量的雜質陰離子呢？
賽默飛二維離子色譜技術方案，被納入《GBT 31369-2015太陽電池用電子級HF》中，作為推薦分析監測方案。
步 高氟基體的去除
上圖說明了二維離子色譜對電子級HF基體去除的原理。電子級HF中大量的氟離子被吸附在離子排斥柱Dionex IonPac ICE-AS6的Donnan膜上，而其他強酸和中強酸的酸根，則先一步流出離子排斥柱，進入到二維離子分析柱中進行分離和測定。整個過程只用超純水作為流動相，使得電子級HF中的高氟基體得到很好地去除。
第二步 遷移速度快的陰離子進入二維色譜柱進行分離
圖1 HF樣品溶液的離子色譜圖
而HF中的fu硅酸，則需在堿性條件下，使其水解并釋放出等摩爾的硅酸鹽。選用柱后衍生-紫外檢測-離子色譜方案，通過對硅酸鹽測定，間接測定fu硅酸的含量，消除了高濃度氟離子基體的干擾，并確保其準確定量低至µg/kg級水平。對樣品的前處理需求，于稀釋，操作簡單方便。
圖2 HF樣品中fu硅酸測定譜圖
半導體制造用水和表面沾污中痕量離子的分析
超純水是為了研制超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率接近18.3MΩ*cm極限值（25℃）。
簡單地說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。我們利用雙閥切換和在線富集，可以很好的測定超純水中的ppt級別的痕量陰離子。
圖3 超純水在線濃縮富集測定痕量陰離子
通過淋洗液發生器配合雙閥切換在線濃縮裝置，淋洗液發生器產生的KOH經過抑制后，產物是水，比碳酸鹽體系具有較低的背景電導，所以具有更高的檢測靈敏度；而通過在線富集，可以實現超大體積進樣，得到更低的檢測下限。
電子級硝酸
硝酸具有強氧化性、強腐蝕性和強酸性，是半導體行業中常用清洗劑和刻蝕劑，試劑中混雜的痕量氯離子會嚴重影響半導體器件的質量。
選用賽默飛高容量陰離子交換色譜柱，只需將樣品進行簡單稀釋后進樣，完成高濃度硝酸基體和常見陰離子雜質的分離分析。
配置上，使用2臺Aquion或ICS6000雙系統組成的閥切換系統，便可以輕松應對電子級試劑的雜質分析難題。賽默飛的“只加水"技術，無需配制淋洗液和抑制器再生液，極簡操作；淋洗液電解產生，無空白污染，高重現性，檢出限可達ppt級別。
賽默飛離子色譜，輕松滿足半導體級別試劑的檢測要求，助力打造中國“芯"！
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