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EV2.0 STD全新HORIBA堀場 等離子發(fā)射監(jiān)測器寬量程型
| 參考價(jià): | ￥ 16545 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- EV2.0 STD 產(chǎn)品型號(hào)
- HORIBA/堀場 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 深圳市 所在地
訪問次數(shù)：188更新時(shí)間：2024-08-07 17:05:58
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產(chǎn)品簡介
| 電動(dòng)機(jī)功率 | 見參數(shù)kW | 外形尺寸 | 中等的mm |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 建材,電子,交通,電氣,綜合 | 重量 | 見參數(shù)kg |
| 訂貨號(hào) | 176.0755.4908. |
從微流量（5SCCM FS）到大流量（500SLM FS）均可控制
保證高精度
1秒內(nèi)高速響應(yīng)
全量程（T98）
尺寸緊湊，
產(chǎn)品介紹
全新HORIBA堀場 等離子發(fā)射監(jiān)測器寬量程型
全新HORIBA堀場 等離子發(fā)射監(jiān)測器寬量程型
使用反應(yīng)濺射將觸摸面板和玻璃基板的薄膜沉積在基材上。反應(yīng)性濺射法是在真空中使濺射粒子與氧或氮發(fā)生化學(xué)反應(yīng)來成膜的方法，但定量供給反應(yīng)氣體的方法會(huì)導(dǎo)致成膜速度變慢，難以實(shí)用化。 。然而，已知反應(yīng)模式和金屬模式之間存在不穩(wěn)定的過渡模式，沉積速率較快，且沉積速率變化較大，可以通過基于反應(yīng)氣體的控制來維持過渡區(qū)域。等離子體發(fā)射強(qiáng)度。
等離子發(fā)射控制器RU-1000使用傳感器檢測等離子發(fā)射強(qiáng)度，并使用 的算法向內(nèi)部制造的高速響應(yīng)質(zhì)量流量控制器指示適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體流量，從而使成膜速度接近于金屬模式并實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的成膜。
業(yè)務(wù)部門：半導(dǎo)體
產(chǎn)品類別：干燥過程控制
制造商：HORIBA STEC, Co., Ltd.
特征
應(yīng)用
下載
等離子發(fā)射控制器RU-1000用于提高沉積速度。通過控制過渡區(qū)的反應(yīng)氣體，與定量供給反應(yīng)氣體的方法相比，成膜速度可以提高數(shù)倍。
通過將多個(gè)等離子體發(fā)射強(qiáng)度傳感器安裝到寬幅基板上并利用這些信號(hào)高速控制反應(yīng)氣體，可以實(shí)現(xiàn)極其均勻的成膜。
等離子發(fā)射控制器RU-1000是一款售后服務(wù)優(yōu)良的國產(chǎn)產(chǎn)品，由專門從事光學(xué)技術(shù)的Horiba和擁有優(yōu)秀氣體控制技術(shù)的Horiba Estec制造。
制造商特點(diǎn)
在生產(chǎn)等離子體發(fā)射控制器時(shí)，HORIBA, Ltd.負(fù)責(zé)測量等離子體發(fā)射強(qiáng)度的基本光學(xué)設(shè)計(jì)，HORIBA STEC, Ltd.負(fù)責(zé)控制反應(yīng)氣體流量的功能部分的設(shè)計(jì)。高速。堀場制作所是汽車尾氣分析儀、薄膜測量、理化分析領(lǐng)域的頂尖公司，而這些分析技術(shù)的基本原理是光學(xué)測量技術(shù)，因此等離子體發(fā)光測量是由日本堀場制作所進(jìn)行的。該領(lǐng)域的頂尖公司。另一方面，反應(yīng)氣體流量的控制部分由全球半導(dǎo)體制造設(shè)備中 的質(zhì)量流量控制器（氣體流量控制裝置）的制造商負(fù)責(zé)。等離子發(fā)射控制器 RU-1000 匯集了堀場集團(tuán)的最佳技術(shù)，并將繼續(xù)挑戰(zhàn)技術(shù)的發(fā)展，達(dá)到更高的高度。
對(duì)于要求演示的客戶
在本公司，我們出租控制器和等離子測量裝置等系統(tǒng)，以便與客戶的系統(tǒng)相匹配，讓客戶放心使用。
對(duì)于給您帶來的不便，我們深表歉意，但請(qǐng)單擊下面的圖標(biāo)并輸入所需的信息。
我們的代表將確認(rèn)您所需的日期和所需的系統(tǒng)。
