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[供應]DPN-5000NLP-2000-NanoInk DPN(浸蘸筆納米加工刻蝕技術)納米加工制備儀DPN-5000 NLP-2000

貨物所在地:上海上海市

更新時間:2024-12-08 21:00:07

有效期:2024年12月8日 -- 2025年6月8日

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NanoInk DPN(浸蘸筆納米加工刻蝕技術)納米加工制備儀DPN-5000 NLP-2000
DPN(Dip Pen Nanolithography)是美國西北大學的Mirkin教授小組和Nanoink公司開發的基于原子力顯微鏡的納米刻蝕技術,國內又稱作浸蘸筆納米加工刻蝕技術。通過對被轉移材料或物質的精確控制,可以在襯底表面構造出任意的納米結構。隨著與相關技術的發展, DPN逐漸發展為一種操

NanoInk DPN(浸蘸筆納米加工刻蝕技術)納米加工制備儀DPN-5000 NLP-2000

DPN技術的實現過程

吸附在原子力顯微鏡(AFM)針尖上的并與基底存在化學作用力的“墨水”分子,通過凝結在針尖與基底間水滴的毛細管作用和表面張力,逐漸轉移到基底表面上以實現納米模板的可控制作。因此,DPN是一種簡單方便的從AFM針尖到基底傳輸分子的方法。DPN技術可在納米尺度范圍內實現多組分的可控組裝, 其分辨率高, 對樣品需求量少, 破壞作用小。墨水分子可為多種有機小分子、有機染料、蛋白質分子、DNA、硅烷類試劑、導電聚合物、無機納米粒子、導電金屬“墨水”或無機鹽。

DPN技術的特點與優勢

☆   自動化快速點印50 nm到10μm 大小的圖案點

☆   可同時點印幾種不同的材料——“墨水”分子

☆   可根據實驗需求隨時改變圖案大小及設計

☆   常溫常壓操作,點印過程不會對生物分子造成損傷

☆   可使用1-55000個“筆”尖同時工作

☆   以納米級精確度將材料點印基底上位置


NanoInk DPN(浸蘸筆納米加工刻蝕技術)納米加工制備儀DPN-5000 NLP-2000

DPN-5000系統中配備有AFM成像系統,與InkCADTM軟件協同使用,可以精確的在襯底表面構造任何的圖形或結構;一維或二維“可控”針尖序列可以實現對目標分子的選擇性沉積!

DPN-5000納米加工制備儀的配置:

 

DPN-5000統主要配備有:高精度DPN掃描臺、InkCAD4.0軟件、極低噪音LFM和AFM掃描成像系統、新型DPN操作臺和光學系統、減震系統、Linux®DPN控制器和E-腔體環境控制系統等。選件包括:定制的“Ink Library”配方、2D PrintArray針尖、“可控”Pen序列針尖等。DPN 5000系統是一個納米圖案制造的全功能的專業的儀器,可以應用不同的材料點印出納米尺寸的精確度的圖案。

       DPN-5000納米加工制備儀的技術特點:

☆    可用于沉積的材料和襯底基板種類眾多(有機分子、生物分子、無機材料顆粒等);

☆    利用InkCADTM技術完成結構的設計、沉積、定位與掃描過程,定位準確、精度*;

☆    配有原子力顯微鏡系統,可實時觀測沉積過程;

☆    自動對環境溫度與濕度精確控制;

☆   可同時完成多種材料和多層復雜結構的沉積;

☆   操作與維護極其簡單;工作效率與微結構制備速率*;

DPN 5000納米加工儀的應用領域:

☆   納米結構加工與刻蝕工藝;

☆   直接刻蝕或沉積材料到襯底表面, 如應用于制作微流通道元件;

☆   基于針尖輔助的單分子合成;

☆   將DNA,蛋白質等生物分子排列成任意形狀或陣列, 如應用于制作納米蛋白質芯片或細胞分化研究用蛋白質圖案基板;

☆   將目標分子準確的放置到已有的模板或微結構中, 如應用于制作生物傳感器;

NanoInk DPN(浸蘸筆納米加工刻蝕技術)納米加工制備儀DPN-5000 NLP-2000

NLP-2000系統中配備有高分辨的光學顯微鏡,可以實時觀測目標分子的沉積過程。同時,二維針尖序列中含有多達幾千個的針尖,可以將目標分子以相同的結構,在襯底表面進行大規模的快速沉積!

NLP-2000納米加工制備儀的配置:

 

NLP-2000系統主要應用于大范圍、快速納米加工與刻蝕,配備有:高精度DPN納米加工與刻蝕操作臺、高分辨光學成像系統、E-腔體環境控制系統、NLP軟件、減震系統等。NLP 2000系統是一個非常友好易操作的臺式納米制備平臺,可以用于納米和微米尺寸的圖案用于一系列研究,包括各種納米顆粒和生物分子。

NLP-2000納米加工制備儀的技術特點:

☆   可同時構建數種不同的蛋白質分子或藥物所形成的圖案

☆   研究者可根據實驗需求隨時改變圖案大小及設計

☆   以納米級別的精確度將微量蛋白質分子或藥物置放到基底上的位置

☆   可同時使用1個到55000個筆尖同時工作,高通量運行

☆   自動化快速點印,構建100 nm到10μm 大小的圖案點

☆   zui大點印面積40mm x 40mm區域

☆   常溫常壓下操作,點印過程不會對蛋白質結構造成損壞

NLP-2000納米加工制備儀的應用領域:

☆   細胞工程 ( Cell Engineering )

☆   干細胞分化 ( Stem Cell Differentiation )

☆   藥物篩選 ( Drug Screen )

☆   生物傳感器 ( Biosensor )

☆   納米蛋白質芯片 ( Protein Nanoarray )

☆   納米結構加工與刻蝕 ( Nanofabrication )

發表的文章:

1.  Adams, J., et al., Large-Area Nanopatterning of Self-Assembled Monolayers of Alkanethiolates by Interferometric Lithography. Langmuir, 2010. 26(16): p. 13600-13606.

2.  Agarwal, P.B., et al., Nano-arrays of SAM by dip-pen nanowriting (DPN) technique for futuristic bio-electronic and bio-sensor applications. Thin Solid Films, 2010. 519(3): p. 1025-1027.

3.  Ariga, K., et al., By what means should nanoscaled materials be constructed: molecule, medium, or human? Nanoscale, 2010. 2(2): p. 198-214.

4.  Bally, M., et al., Liposome and Lipid Bilayer Arrays Towards Biosensing Applications. Small, 2010. 6(22): p. 2481-2497.

5.  Bellido, E., et al., Controlling the Number of Proteins with Dip-Pen Nanolithography. Advanced Materials, 2010. 22(3): p. 352-+.

6.  Bellido, E., et al., Nanoscale Positioning of Inorganic Nanoparticles using Biological Ferritin Arrays Fabricated by Dip-Pen Nanolithography. Scanning, 2010. 32(1): p. 35-41.

7.  Bhatnagar, P., et al., Multiplexed Protein Patterns on a Photosensitive Hydrophilic Polymer Matrix. Advanced Materials, 2010. 22(11): p. 1242-+.

8.  Chai, J.A., et al., Scanning probe block copolymer lithography. Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America, 2010. 107(47): p. 20202-20206.

9.  Chen, C.C.A. and J.R. Chen, Nanopattern Fabrication by Tip Plowing Technology on 55 nm Grating with Stitching Image Method. Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 2010. 10(7): p. 4411-4416.

10.  Chen, X., et al., Electrical nanogap devices for biosensing. Materials Today, 2010. 13(11): p. 28-41.

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