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半導體解決方案 | 閥切換離子色譜法測定電子級雙氧水中微量陰離子含量
電子級雙氧水是大規模集成電路生產工藝中所必須的電子化學原料，被廣泛應用于半導體、超大集成電路裝配和加工過程中的清洗和腐蝕等方面。半導體硅材料純度較高，但在加工過程中，因各種原因會留下污染物，這些污染物如果不及時清理，就容易影響性能、精準度，甚至報廢。電子級雙氧水對品質要求、產品精度等要求都較高，通過閥切換離子色譜法可測定雙氧水中Cl-、SO42-、NO3-、PO43-等微量陰離子含量。
實驗設備
閥切換技術
閥切換技術是離子色譜中常用的在線技術，主要用于基體的消除。一般是通過切換不同類型固定相的色譜柱，利用固定相選擇性的差異富集待測離子，消除基體的干擾；或者是在固定相類型相同的色譜柱之間進行切換。
實驗數據
標準譜圖
盛瀚閥切換技術可實現Cl-、SO42-、NO3-、PO43-的分離與檢測
線性譜圖
以氯離子為例，標準曲線R值為0.999948，線性良好，儀器測試穩定性高
樣品譜圖
本方案根據樣品性質進行檢測，使用盛瀚CIC-D300+雙通道離子色譜，通過閥切換系統去除基體干擾后，待測離子進入離子色譜進行分析，采用抑制電導檢測。從測試結果可以看出待測離子峰型良好，目標峰的響應信號明顯，目標峰的分離度及檢出限均滿足標準要求，采用該方案可以對雙氧水中陰離子進行準確的定性定量分析。
盛瀚專業離子色譜方案專家，半導體行業解決方案將定期更新半導體材料、制造工藝、電路板雜質等方面的檢測。
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