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化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>光學測量儀>橢偏儀> ME-L 穆勒矩陣橢偏儀03090801

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ME-L 穆勒矩陣橢偏儀03090801

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北京鴻瑞正達科技有限公司—實驗室整體建設解決方案集成者:
鴻瑞正達主要服務于高等院校、科研院所和研發企業,專注于科研領域,助力科研成果轉化。公司提供材料研究成套設備及整套解決方案,包括:高壓科學材料、金屬材料、電池研發、地質地礦材料、脆性材料、薄膜材料等研究領域的科研成套設備。

我們的服務理念是:讓科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設備,材料科學,質譜儀,電化學,電池,催化

 

 

 

 

 

img1

 

產品簡介: ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了科研團隊在橢偏技術多年的投入, 其采用行業前沿的創新技術,包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。可應用 于半導體薄膜結構,半導體周期性納米結構,新材料,新物理現象研究,平板顯示,光伏太陽能,功能性 涂料,生物和化學工程,塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維 /二維納米光柵材料結構的表征分析。

雙旋轉補償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣 16 個元素;配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優質硬 件模塊,軟件交互式界面配合輔助向導式設計,易上手、操作便捷;豐富的數據庫和幾何結構模型庫,保 證強大數據分析能力。

產品型號

ME-L 全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀

主要特點

1、采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍img2(193-2500nm)

 

2、可實現穆勒矩陣數據處理,測量信息量更大,測量速度快、數據更加精準

 

3、基于雙旋轉補償器配置, 可一次測量獲得全部穆勒矩陣的 16 個元素,相對傳統光譜

橢偏儀可獲取更加豐富全面的測量信息

 

4、頤光技術確保在寬光譜范圍內,提供優質穩定的各波段光譜

 

5、數百種材料數據庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料

 

6、集成對納米光柵的分析img3可同時測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙

度等幾何形貌信息

技術參數

1、應用:科研級/企業級

 

2、基本功能: Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜

 

3、分析光譜: 380-1000nm(支持擴展至210-1650nm)

 

4、單次測量時間: 1-8s

 

5、重復性測量精度: 0.005nm

 

6、精度(直通測量空氣)

 

橢偏參數: ψ=45±0.05°△=0±0.1°

 

穆勒矩陣:對角元素 m=1±0.005; 非對角元素 m=0±0.005

 

7、光斑大小: 大光斑 2-3mmimg4微光斑 200 μm

可選配置

波段選擇

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度選擇

自動:45-90°

手動:55-75°(5°步進),90°

固定:65°

其他選擇

Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)

溫控臺:室溫一 600C(供參考,按需定制)

可選配件

1

溫控臺

2

Mapping 擴展模塊

3

真空泵

4

透射吸附組件

 



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