| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工 |
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我們的近紅外分析儀可監測半導體、IC、PCB 和太陽能電池制造中酸浴、濕法蝕刻、清潔和回收的溶液強度和水分，苛性酸、苛性堿和清潔溶液是半導體制造、工業清潔和各種其他應用的重要組成部分。需要監測其濃度，以確保有效使用和再利用。在線或在實驗室中準確測定這些關鍵化學品的濃度。在線近紅外分析儀與適用于此類半導體生產中的酸和苛性堿。
半導體生產中的酸和苛性堿
儀器可在惡劣的環境中測量，組件由專為濕化學工藝設計的材料制成，本質安全且堅固耐用。在線或在實驗室進行測量將實現最佳的檢測性能。即使在高濃度和高溫的環境下也能測量各種酸和苛性堿。
測量酸、堿、清潔、洗滌和其他溶液：
H2SO4（硫酸） Na2CO3（碳酸鈉） HF（氫氟酸） NH4OH（氫氧化銨） 鹽酸（鹽酸） SC-1
| HNO3（硝酸） SC-2 CH3COOH （醋酸） H2O2（過氧化氫） 氫氧化鈉（氫氧化鈉） TMAH（四甲基氫氧化銨） |
測量溶液和最終產品中的水分
監控解決方案，確保性能
確保最佳產品質量并降低運營費用
用于實時過程監控的在線分析
在線監測半導體制造和溶液回收中的濃度可以節省成本，最大限度地控制成本，實時監測和控制關鍵質量參數。在線監測主要成分的濃度，可確保最佳性能并減少工藝變化。
同時測量多達 20 個酸
通過 Modbus、4-20ma 等技術將您的分析儀直接集成到您的控制系統中
實時監控工藝流體，及時了解加工條件
讓您的工廠在您設定的范圍內運行并保持
在線測量的探頭可用于惡劣環境中
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