PICOSUN™P-1200系統專門對批量的大  尺寸平面基底進行低溫薄膜沉積， 應用于有機光電、顯示器和OLED等領域。主要的應用包括制備各種各樣的鈍化層和阻擋層， 顯著提高器件的性能和壽命。巧妙、創新的設計使 得PICOSUN™ P-1200 ALD系統在具有制備高  均一性的高質量ALD薄膜的同時能夠有很高  的產量， 并且是市場上保養、維護時間低， 購置成本最小的ALD系統。這些都已經在實際 生產中得到證實。

可靠、快速且易于維護的PICOSUN™ P-1000 ALD系統代表了工業化ALD工藝水平！

PICOSUN™P-1200襯底尺寸和類型

•    400x 500 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）

•    370x 470 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）

•    柔性襯底的臥式批量加工

工藝溫度和產率

•    50 – 120°C

•    產量達到168片/24h (100nm Al2O3)

標準工藝

•    低溫沉積Al2O3等薄膜材料

基片裝載

•    半自動裝卸

•    預真空室配備溫度控制器（25 - 80 °C），以達 到最大產量和低水分污染

前驅體

•    液態、固態、氣態、臭氧源

•    源瓶余量傳感器，提供清洗和裝源服務

•     7根獨立源管線， 最多加載10個前驅體源