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電鍍層厚度分析機器

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    我公司銷售產品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)、礦漿載流在線采樣儀(OSA)等。產品主要應用領域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾(貴金屬及鍍層檢測等)、玩具安全(EN71-3等),F963中規定的有害物質:鉛Pb、砷As、銻Sb、鋇Ba、鎘Cd、鉻Cr、Hg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材(水泥、玻璃、陶瓷等)、合金(銅合金、鋁合金、鎂合金等)、冶金(鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等)、地質采礦(各種礦石品位檢測設備)、塑料(無鹵測試等)、石油化工、高嶺土、煤炭、食品、空氣、水質、土壤、環境保護、香精香料、紡織品、醫藥、商品檢驗、質量檢驗、人體微量元素和化合物檢驗等等。銷售的儀器設備應用于元素分析,化合物測試,電鍍鍍層厚度檢測等。





能量色散X熒光光譜儀,ROHS ROHS2.0 REACH指令檢測儀|化合物分析|元素分析儀|土壤檢測儀|ROHS檢測儀|合金檢測儀|元素分析儀|礦石檢測儀|含鉛量檢測儀

應用領域 環保,化工,農業,冶金,綜合

電鍍層厚度分析機器

我公司銷售產品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)、礦漿載流在線采樣儀(OSA)等。以下介紹經常使用的電鍍膜厚檢測設備:

產品概述

產品類型: 能量色散X熒光光譜分析設備

產品名稱: 鍍層厚度分析儀

   號: iEDX-150T

產 商: 韓國ISP公司

產品優勢及特征

(一)產品優勢

1. 鍍層檢測,檢測層數范圍1-5層;鍍層測量精度可達0.001μm。

2. 全自動操作平臺,平臺尺寸80X2*75X2*90(X*Y*Z);

3. 激光定位和自動多點測量功能;

4. 檢測的樣品可以為固體、液體或粉末;

5. 運行及維護成本低、無易損易耗品,對使用環境相對要求低;

6. 可進行未知標樣掃描、無標樣定性、半定量分析;

7. 操作簡單、精準無損、高品質、高性能、高穩定性,快速檢測(5-40秒依配置而定);

8. 頂級配置:SDD探測器、超長壽命X射線管、SPELLMAN高壓電源,儀器使用壽命長。

9. 超高分辨率:125±5電子伏特(電子伏特越低分辨率越高,檢測越精準,這是能譜儀一個非常關鍵的技術指標);

10. 可針對客戶個性化要求量身定做輔助分析配置硬件;

11. 軟件升級;

12. 無損檢測,一次性購買標樣可使用;

13. 使用安心無憂,售后服務響應時間24H以內,提供保姆式服務;

14. 具有遠程服務功能,在客戶請求的情況下,可遠程進行儀器維護;

(二)產品特征

1. 高性能高精度X熒光光譜儀(XRF)

2. 計算機 / MCA(多通道分析儀)

2048通道逐次近似計算法ADC(模擬數字轉換器)

3. Multi Ray. 運用基本參數法(FP)軟件,對樣品進行精確的鍍層厚度分析,可對鍍液進行定量分析。

MTFFP (多層薄膜基本參數法) 模塊進行鍍層厚度及全元素分析

勵磁模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A1

吸收模式 50987.1 DIN / ISO 3497-A2

線性模式進行薄膜鍍層厚度測量

相對(比)模式  無焦點測量 DIN 50987.3.3/ ISO 3497

多鍍層厚度同時測量

單鍍層應用 [如:Cu/ABS等]

雙鍍層應用 [如:Ag/Pd/Zn, Au/Ni/Cu等]

三鍍層應用 [如:Au/Ni-P/Cu/Brass等]

四鍍層應用 [如:Cr/Ni/Cu/Zn/SnPb等]

合金鍍層應 [如:Ni-Zn/Fe Sn-Ni/ABS  Pd-Ni/Cu/ABS等]

4. Multi-Ray. 快速、簡單的定性分析的軟件模塊。可同時分析20種元素。半定量分析頻譜比較、減法運算和配給。

Multi-Ray 金屬行業精確定量分析軟件。可同時分析8種元素。最小二乘法計算峰值反卷積。采用盧卡斯-圖思計算方法進行矩陣校正及內部元素作用分析。金屬分析精度可達±0.02%,貴金屬(8-24 Karat) 分析精度可達±0.05kt

Multi-Ray. 對鍍液進行分析。采用不同的數學計算方法對鍍液中的金屬離子進行測定。含全元素、內部元素、矩陣校正模塊。

技術指標

多鍍層分析,1~5層;

測試精度:0.001 μm;

元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U);

測量時間:10~30秒;

SDD探測器,能量分辨率為125±5eV;

探測器Be窗0.5mil(12.7μm);

微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);

6個準直器及多個濾光片自動切換;

XYZ三維移動平臺,MAX荷載為5公斤;

高清CCD攝像頭(200萬像素),準確監控位置;

多變量非線性去卷積曲線擬合;

高性能FP/MLSQ分析;

儀器尺寸:618×525×490mm;

樣品臺尺寸:250×220mm;

樣品臺移動范圍:前后左右各80mm、高度90mm。

1、硬件參數:

1.       X射線管:高穩定性X射線管,使用壽命(工作時間>8,000小時)

微焦點x射線管

鈹窗口, 光斑尺寸75um,油絕緣,氣冷式,輻射安全電子管屏蔽。

50kV,1mA。高壓和管流設定為應用程序提供最佳性能。

2.       探測器:Si-Pin探測器

能量分辨率:149±5eV

3.       濾光片/可選

初級濾光片:Al濾光片,自動切換

多準直器:0.2,0.3,0.5mm可選

測試點大小:準直器面積的1.5倍  

4.       平臺:軟件程序控制步進式電機驅動X-Y-Z軸移動大樣品平臺。
激光定位、簡易荷載最大負載量為5公斤
軟件控制程序進行持續性自動測量

5.       樣品定位:顯示屏上顯示樣品鎖定、簡易荷載、激光定位及拍照功能

6. 分析譜線:

- 2048通道逐次近似計算法ADC(模擬數字轉換)

- 基點改正(基線本底校正)

- 密度校正

- Multi-Ray軟件包含元素ROI及測量讀數自動顯示

7.視頻系統:高分辨率CCD攝像頭、彩色視頻系統

- 觀察范圍:3mm x 3mm

- 放大倍數:40X

- 射線方向:上照式

- 軟件控制取得高真圖像

8. 檢測厚度(正常指標):

- 原子序數 22 - 24 : 6 ~ 1000 微英寸

- 原子序數 25 - 40 : 4 ~ 1200 微英寸

- 原子序數 41 - 51 : 6 ~ 3000 微英寸

- 原子序數 52 - 82 : 2 ~  500 微英寸

9. 計算機、打印機(贈送)

1  含計算機、顯示器、打印機、鍵盤、鼠標

2  Windows 7操作系統

3  Multi-Ray軟件

注:設備需要配備穩壓電源,需另計。

2)、光譜儀軟件功能

1)軟件應用

單鍍層測量

線性層測量,如:薄膜測量

雙鍍層測量

針對合金可同時進行鍍層厚度和元素分析

三鍍層測量。

無電鍍鎳測量

電鍍溶液測量

2) 軟件標定方法

自動標定曲線進行多層分析

- 使用無標樣基本參數計算方法

- 使用標樣進行多點重復標定

- 標定曲線顯示參數及自動調整功能

3) 軟件校正功能:

- 基點校正(基線本底校正)

- 多材料基點校正,如:不銹鋼,黃銅,青銅等

- 密度校正

4) 軟件測量功能:

- 快速開始測量

- 快速測量過程

- 自動測量條件設定(光管電流,濾光片,ROI)

5) 自動測量功能(軟件平臺)

- 同模式重復功能(可實現多點自動檢測)

- 確認測量位置 (具有圖形顯示功能)

- 測量開始點設定功能(每個文件中存儲原始數據)

- 測量開始點存儲功能、打印數據

- 旋轉校正功能

- TSP應用

- 行掃描及格柵功能

6) 光譜測量功能

- 定性分析功能 (KLM 標記方法)

- 每個能量/通道元素ROI光標

- 光譜文件下載、刪除、保存、比較功能

- 光譜比較顯示功能:兩級顯示/疊加顯示/減法

- 標度擴充、縮小功能(強度、能量)

7) 數據處理功能

- 監測統計值: 平均值、 標準偏差、 最大值。

- 最小值、測量范圍,N 編號、 Cp、 Cpk,

- 獨立曲線顯示測量結果。

- 自動優化曲線數值、數據控件

8)其他功能

- 系統自校正取決于儀器條件和操作環境

- 獨立操作控制平臺

- 視頻參數調整

- 儀器使用單根USB數據總線與外設連接

- Multi-Ray自動輸出檢測報告(HTML、Excel、PDF)

- 屏幕捕獲顯示監視器、樣本圖片、曲線等.......

- 數據庫檢查程序

- 鍍層厚度測量程序保護。

9  儀器維修和調整功能

-          自動校準功能;

-          優化系統取決儀器條件和操作室環境;

-          自動校準過程中值增加、偏置量、強度、探測器分辨率,迭代法取決于峰位置、CPS、主X射線強度、輸入電壓、操作環境。

電鍍層厚度分析機器



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