平行板電容式PECVD
- 公司名稱 沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 沈陽
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/5/8 17:51:53
- 訪問次數(shù) 980
聯(lián)系方式:吳女士15640436639 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
---|
平行板電容式PECVD是一種用等離子體激活反應(yīng)氣體,促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成等離子體,利用低溫等離子體作為能量源,通入適量的反應(yīng)氣體,利用等離子體放電,使反應(yīng)氣體激活并實(shí)現(xiàn)化學(xué)氣相沉積的技術(shù)。該系統(tǒng)為單室等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝研發(fā)設(shè)備,用于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。1、系統(tǒng)采用單筒式結(jié)構(gòu),手動(dòng)前開門
2、高真空環(huán)境下進(jìn)行沉積薄膜
3、不銹鋼腔體
4、樣品臺(tái)可轉(zhuǎn)動(dòng)
產(chǎn)品名稱 | 平行板電容式PECVD | |
安裝條件 | 1、環(huán)境溫度:10℃~35℃ 2、相對濕度:不大于75% 3、供電電源:220V、單相、50±0.5 Hz 4、設(shè)備功率:小于4KW 5、供水:水壓0.2MPa~0.4MPa,水溫15℃~25℃, 6、設(shè)備周圍環(huán)境整潔,空氣清潔,不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。 | |
主要參數(shù) | 1、系統(tǒng)采用單室筒式結(jié)構(gòu),手動(dòng)前開門; 2、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造(304),氬弧焊接,表面采用噴玻璃丸+電化學(xué)拋光鈍化處理配有可視觀察窗口,并帶擋板,真空室尺寸為Φ300mm×300mm; 3、極限真空度:8.0x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后,采用600L/S分子泵抽氣,前級采用4L/S); 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到8.0x10-4 Pa,40分鐘可達(dá)到; 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤20 Pa; 4、采用樣品在下,噴淋頭在上的電容式耦合方式進(jìn)氣; 5、樣品最高加熱溫度:500℃,溫控精度:±1°C,采用溫控表進(jìn)行控溫; 6、噴淋頭尺寸:Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距15-50mm在線連續(xù)可調(diào)(可根據(jù)工藝調(diào)整),并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示; 7.、沉積工作真空:13.3-133Pa(可根據(jù)工藝調(diào)整); 8、射頻電源:頻率 13.56MHz,最大功率300W全自動(dòng)匹配; 9、氣體種類(用戶自備),標(biāo)準(zhǔn)配置為2路100sccm質(zhì)量控制器,用戶可根據(jù)工藝更改氣路配置; 10、系統(tǒng)尾氣處理系統(tǒng)(用戶自備)。 |
相關(guān)分類
該廠商的其他產(chǎn)品
- 球形脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)
- GSL-1700X-4-C2HV 1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV
- GSL-1700X-F3LV 1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)GSL-1700X-F3LV
- 4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)
- OTF-1200X-5-III-F3LV 帶滑動(dòng)法蘭三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-5-III-F3LV
- 高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV
- OTF-1200X-4-RTP-C3HV 高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV
- OTF-1200X-4-C4LV 1200℃雙管滑動(dòng)式四通道混氣CVD系統(tǒng) OTF-1200X-4-C4LV