FPSEM-STE-MS150 高壓濺射PVD物理氣相沉積系統
參考價 | ¥550000-¥1200000/件 |
- 公司名稱 孚光精儀(中國)有限公司
- 品牌孚光精儀
- 型號FPSEM-STE-MS150
- 所在地上海市
- 廠商性質經銷商
- 更新時間2024/12/16 11:52:06
- 訪問次數 960
聯系方式:華小姐021-22799028 查看聯系方式
聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!
產地類別 | 進口 | 價格區間 | 80萬-100萬 |
---|---|---|---|
應用領域 | 能源,電子,航天 | 1 | 2 |
這款高壓PVD系統配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設計,PVD可以在溫度最高900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性材料,最大容納晶圓直徑為150mm,訂制后最大可容納200mm直徑晶圓。
高壓PVD系統特點
•最多3個磁控管源,靶材為∅76,2 mm
•過程氣體:Ar、H2、O2、N2
•磁控管源位于柔性支架上,可聚焦到單點(共焦幾何結構),以提供共沉積模式
•每個磁控管源的主快門或單獨快門(可選)
•可能安裝電子束源和/或熱阻蒸發器以及用于基板清潔的離子源(可選)
•多功能真空沉積系統,可配備各種PVD源和高溫晶圓加熱
•用2-3個磁控管沉積多組分薄膜
•從2-3個磁控管源同時濺射相同的目標材料,以在∅100-150 mm基板上提供最大的均勻性
•可能升級多達7個磁控管源,以便使用旋轉式晶圓安裝逐個沉積材料
高壓PVD系統規格參數
工藝過程反應器中的極限壓力: 不小于<1×10-7(<1×10-8 in UHV version)
達到預處理真空的時間(<5×10^-6Torr)在TMP 550 l/sand,干渦旋泵35m3/h時: 不超過2min
沉積過程中晶圓旋轉的速度范圍: 0~20rpm
晶圓加熱溫度: 最高900°С
泵送系統性能:–渦輪分子泵,不小于500l/s
–干式渦旋泵,不小于35m3/h