產品簡介

Pioneer120 PLD System是基礎型獨立PLD系統，用于制備高質量的外延薄膜、多層異質結、超晶格等。該PLD系統與Pioneer 120 Advanced系統和Pioneer 180 PLD系統的主要區別是襯底加熱階段。Pioneer 120 Advanced系統使用導電加熱階段用于襯底加熱， 其他模型使用輻射加熱階段。為了達到950°c的額定高溫，基板必須與加熱板緊密接觸，用銀漿提供加熱板和基板之間的緊密接觸(當需要這些高溫時)。在不需要銀漿的情況下，還提供襯底夾來固定襯底。在這些情況下, highest 襯底溫度可能低于額定950°c。加熱器是氧兼容的，能達到1大氣(760托)的氧, 這個特性有助于制備外延氧化薄膜：可能需要在氧氣環境后沉積和氧氣壓力接近1 atmosphere后退火冷卻。Pioneer 120 PLD系統包括一個自動多目標轉，具有目標旋轉、目標光柵和軟件控制的多層和超晶格沉積所需的目標選擇。閉環壓力控制提供了使用質量流量控制器的精確過程壓力控制。干式泵是由機械隔膜泵或渦旋泵支持的渦輪分子泵組合而成。該系統軟件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加熱器，目標轉，過程壓力，系統泵和激光觸發。

產品特點

獨立的交鑰匙PLD系統。

外延薄膜、多層異質結構和超晶格的沉積。

納米級薄膜的沉積。

外延氧化膜沉積的可編程氧兼容加熱器。

自動多目標旋轉多層沉積。

全干式真空泵組。

通過系統軟件進行閉環壓力控制。

技術指標

1、沉積室

8”CF泵口。8”CF襯底加熱器端口。8“CF的目標

2、旋轉端口

可編程導電襯底加熱器

加熱器最\高溫度:950℃。

最\大加熱器尺寸:直徑2英寸(其他尺寸為定制)。

3、抽真空包組

全干真空泵。渦輪分子泵支持隔膜或渦旋泵。

4、PLD系統軟件

Windows 7, LabVIEW 2013

控制襯底加熱階段。

控制目標旋轉階段。

5、PLD光學組件

用于248nm的45°激光鏡。

248nm平面凸透鏡。

焦距約為50厘米。