CRESTEC 無掩膜電子束曝光機
- 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CRESTEC
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/10/12 15:10:52
- 訪問次數(shù) 1429
聯(lián)系方式:紹兵18263262536 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 150萬-200萬 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
電子束光刻系統(tǒng)EBL (E-Beam Lithography)
電子束直寫系統(tǒng) 、 電子束曝光系統(tǒng)
CABL-9000C series
納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀納米科技提供 的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(EBD)、電子束爆光系統(tǒng)。
型號包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列小線寬可達8nm,小束斑直徑2nm,套刻精度 20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)。
技術(shù)參數(shù):
1.小線寬:小于10nm(8nm available)
2.加速電壓:5-50kV
3.電子束直徑:小于2nm
4.套刻精度:20nm(mean+2σ)
5.拼接精度:20nm(mean+2σ)
6.加工晶圓尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option)
7.描電鏡分辨率:小于2nm
主要特點:
1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍
2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù)
3.采用場尺寸調(diào)制技術(shù),電子束定位分辨率(address size)可達0.0012nm
4.采用軸對稱圖形書寫技術(shù),圖形偏角分辨率可達0.01mrad
5.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,如微納器件加工,Si/GaAs 兼容工藝,研究用掩膜制造,納 米加工(例如單電子器件、量子器件制作等),高頻電子器件中的混合光刻(Mix & Match),圖形線寬和圖形位移測量等。