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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>濕法工藝設備>化學機械拋光機(CMP)> CTS AP-200 CMP化學機械拋光機

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CTS AP-200 CMP化學機械拋光機

具體成交價以合同協(xié)議為準
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拋光機

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億誠恒達科技有限公司,在北京和香港兩地注冊。北京公司位于北京海淀中關村核心區(qū)域,是一家專門代理營銷進口科學儀器、測試測量設備的高科技企業(yè),所經營的產品涵蓋材料科學、化學分析、綠色能源、半導體及微電子科學等領域。公司本著“誠信、務實、品質、服務”的經營理念,已經為國內許多用戶提供了*的儀器設備,專業(yè)的技術咨詢和完善的售后服務。

公司主要代理產品有:*材料試驗機,疲勞試驗機,沖擊試驗機,電化學工作站,恒電位/恒電流儀,石英晶體微天平,三維形貌儀,輪廓儀,原子力顯微鏡(AFM),掃描探針顯微鏡(SPM),摩擦磨損試驗機,瓶蓋扭矩測量儀,軸承扭矩測量儀,高頻疲勞試驗機。

億誠恒達科技有限公司愿與客戶攜手,共創(chuàng)美好未來!

萬能材料試驗機,疲勞試驗機,沖擊試驗機,電化學工作站,恒電位/恒電流儀,石英晶體微天平,三維形貌儀,輪廓儀,原子力顯微鏡(AFM),掃描探針顯微鏡(SPM),摩擦磨損試驗機,瓶蓋扭矩測量儀,軸承扭矩測量儀,高頻疲勞試驗機

應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,農業(yè),石油


CTS AP-200 CMP化學機械拋光機


主要技術參數:

- 拋光平臺轉速:0-200 rpm

- 拋光頭載體轉速:0-200 rpm

- 整理器轉速:0-150 rpm

- 拋光液流速:20-500 cc/min

- 整理器下壓力:2- 20 lbs

ap200_3.jpg

2. 工藝數據可實時監(jiān)測;

ap200_4.jpg

3.多種拋光液 & 高壓去離子水系統(tǒng)

- 內置兩個共給拋光液的泵單元

- 拋光液材質:氧化物,鎢,銅,二氧化鈰等

- 流量:20?500cc / min

- 雙排噴嘴排列布置,具有高壓清潔效果

- 通過各種不同噴嘴角度,更干凈的清洗拋光墊

CTS AP-200 CMP化學機械拋光機



應用領域:

- ILD(層間電介質)CMP,IMD(金屬間電介質)CMP,氧化物CMP,多晶硅CMP,鎢CMP,銅CMP

- 半導體CMP 工序(Semiconductor CMP)

- MEMS CMP

- 高校及科研院所高品質科研測試(University, Lab _High Quality Performance Test

- 晶片研磨代工企業(yè)(Wafer Polishing Service

- CMP耗材研發(fā)企業(yè)(CMP Consumable Parts),CMP拋光液,金剛石研磨墊整理器,CMP研磨墊


售后服務

  • 免費上門安裝:是

  • 保修期:1年

  • 是否可延長保修期:是

  • 保內維修承諾:設備保修期內不收取零部件及其它費用,實行保修服務。并提供設備終身售后服務

  • 報修承諾:接到用戶通知后,2小時內做出響應,24小時內給出明確解決方案

  • 免費儀器保養(yǎng):用戶使用半年后,將安排一次應用培訓以使用戶達到熟練使用設備程度

  • 免費培訓:3人次現(xiàn)場培訓

  • 現(xiàn)場技術咨詢:有


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